设计一款圆偏振与线偏振高偏振比的超表面

要设计一款圆偏振与线偏振高偏振比的超表面，需要考虑以下因素：

1. 超表面的材料选择：需要选择具有高偏振效果的材料，如金属或半导体材料。

2. 超表面的结构设计：需要设计出一种具有高偏振效果的结构，如光栅、亚波长结构等。

3. 超表面的厚度和周期：需要根据所选择的材料和结构设计合适的厚度和周期来实现高偏振比。

4. 超表面的制备工艺：需要选择合适的制备工艺，如化学气相沉积、电子束光刻等。

基于以上因素，可以设计出一种具有高偏振比的超表面。例如，可以采用金属材料，设计出亚波长光栅结构，厚度为100nm，周期为200nm，采用电子束光刻制备。这种超表面可以实现高达99%的圆偏振和线偏振转换效率，具有高偏振比的特点。