28nm工艺和45nm工艺的主要区别

28nm工艺和45nm工艺是两种不同的半导体制造工艺。它们之间的主要区别是：

1. 尺寸不同：28nm工艺中的晶体管尺寸约为28纳米，而45nm工艺中的晶体管尺寸约为45纳米。

2. 性能不同：由于晶体管尺寸更小，28nm工艺通常具有比45nm工艺更高的性能。

3. 成本不同：由于生产过程更复杂，28nm工艺通常比45nm工艺成本更高。

4. 耗电不同：28nm工艺通常比45nm工艺耗电更少。

5. 密度不同：28nm工艺具有比45nm工艺更高的密度，也就是说，在相同面积内可以容纳更多的晶体管。