光刻scanner介绍

时间: 2023-05-12 10:01:12 浏览: 30
光刻技术是半导体工业中最重要的技术之一,也是一种制造芯片的关键工艺,而光刻scanner就是其中的核心设备之一。光刻scanner是一种基于投影光刻技术的半导体制造设备,其作用是将设计的芯片电路图案通过光刻技术投影到硅片上,同时具有高度的精度和稳定性。 光刻scanner的主要组成部分有:光源系统、投影光学系统以及物料传输系统。光源系统就是产生光源的核心部分,常见的有大气压水银灯、氘灯和反射型准分子激光器等。投影光学系统则主要由镜头、光阑、分束器、反射镜等几个部分组成,其作用是将经过光源照射的光线通过透镜或反射镜逐级放大并投射到硅片上的光刻胶上。物料传输系统则是将硅片和光刻胶以及掩模等相关物料传送到投影光学系统中的核心部位。 在光刻scanner运行过程中,如何控制其精度和稳定性是关键问题。通过对光源、镜头以及物料传输系统进行精细调整,可以实现很高的光刻分辨率和注刻深度均匀性。同时,在芯片制造过程中,不同的工艺需要不同的光刻条件和掩模,光刻scanner也需要不断升级优化,满足不同工程的需求。 随着半导体工业迅速发展,光刻scanner将继续扮演着至关重要的角色,为芯片制造提供精准而有效的解决方案。随着新型材料与工艺的出现,其发展空间还将进一步扩大。
相关问题

基于python的光刻计算

基于Python的光刻计算是指使用Python编程语言进行光刻技术相关计算的过程。光刻技术是一种用于集成电路制造的关键工艺,用于将电路图案转移到硅片上的光敏材料中。 Python作为一种高级编程语言,具有简单易学、灵活多样的特点,非常适合用于光刻计算。借助Python的强大的科学计算库,如NumPy、SciPy和matplotlib,可以方便地进行光刻模拟和分析。 在基于Python的光刻计算中,可以通过编写各种函数和算法来模拟光刻过程中的光场传播、光线衍射和光强分布等现象。可以通过使用光刻相关的公式和模型,计算出光刻光源、掩模图案、投影光学系统和光刻材料之间的相互作用,从而得到光刻过程中的各项参数和输出结果。 基于Python的光刻计算可以帮助工程师和研究人员更好地理解和优化光刻工艺,提高集成电路的制造质量和产能。通过编写代码,可以模拟不同光刻条件下的衍射效应、深紫外光刻的光学特性、衬底边缘效应等,并通过计算得到更准确的光刻图案和曝光参数。 总而言之,基于Python的光刻计算是一种强大而灵活的工具,可以应用于光刻技术的研究和开发中,帮助实现更精密、高效的集成电路制造。

asml光刻机维修手册

### 回答1: ASML光刻机维修手册是一本重要的技术指南,用于指导维修人员在处理ASML光刻机故障和维修问题时的操作步骤和注意事项。 手册首先会对ASML光刻机的基本原理和组成部分进行详细描述,如光源、掩模台、光学系统等。维修人员可以通过理解光刻机的工作原理,更好地诊断和修复故障。此外,手册还包括了各种常见故障的解决方案,如镜头污染、光学系统校准偏差、系统设备通讯故障等,以及相应的维修步骤和技巧。维修人员可以根据手册提供的指导,有目的地进行维修工作,节省时间和精力。 手册还会介绍ASML光刻机的维护保养知识,包括设备的日常清洁和定期保养工作。维修人员需要了解什么样的保养措施可以有效延长设备寿命和保持设备性能稳定。手册会提供一些实用的方法和建议,以帮助维修人员正确地处理维护工作。 此外,ASML光刻机维修手册可能还包含了一些故障诊断的实例和案例分析,以供参考。这些案例可以帮助维修人员培养故障诊断的能力,更好地理解ASML光刻机的工作机制和常见故障模式。 总之,ASML光刻机维修手册是一本重要的工具书,为维修人员提供了必要的知识和技能,以便他们能够高效地处理ASML光刻机的故障和维修工作。 ### 回答2: ASML光刻机维修手册是为了帮助技术工程师在光刻机维护和修复过程中提供准确的指导和支持而编写的。该手册包含了ASML光刻机的详细介绍和工作原理,旨在帮助维修人员深入了解光刻机的结构和操作方式。 维修手册首先介绍了光刻机的各个组成部分,包括光源、曝光系统、光学系统和机械结构等,并详细说明了它们的工作原理和相互之间的关联。通过这些内容,维修人员可以理解光刻机的整体架构,从而更好地进行故障排除和维护。 维修手册还涵盖了常见故障的诊断和修复方法。例如,当光刻机出现曝光不均匀、像差增大或者机械部件损坏等问题时,维修手册提供了相应的故障排查方案和解决方法。这些方案通常包括故障现象的描述、可能的原因分析以及相关的维修步骤和维修工具的使用说明。维修人员可以根据手册提供的指导逐步解决问题,快速恢复光刻机的正常运行。 此外,维修手册还包括了安全操作的指导和注意事项。由于光刻机涉及到高压电源、强光辐射等危险因素,因此在维修过程中必须严格遵守相关的安全规定。维修手册提供了安全操作流程和个人防护措施的建议,帮助维修人员降低工作风险并保障人身安全。 总之,ASML光刻机维修手册是一本重要的工具书,为维修人员提供了全面的指导和支持。通过阅读和遵循手册中的内容,维修人员可以更加高效、准确地解决光刻机的故障,确保设备的稳定运行和生产效率的提高。

相关推荐

Nikon光刻机是一种高精密度的半导体制造设备,广泛应用于集成电路和芯片制造行业。它使用光学投影技术,将芯片图案投射到硅片上,并通过一系列的加工步骤将图案转移到硅片上。 Nikon公司是光刻机领域的知名厂商之一。他们在光刻机的研发和制造方面积累了丰富的经验和技术实力。在生产过程中,他们严格控制每一个细节,确保设备的稳定性和性能。 Nikon光刻机的原厂资料包括用户手册、技术规格、维护手册、设备图纸等。用户手册详细介绍了设备的操作方法和注意事项,帮助用户掌握设备的使用技巧。技术规格则概述了设备的主要性能指标,例如分辨率、曝光时间、重复定位精度等,以便用户了解设备的能力和限制。 维护手册包含了设备的维护保养方法和常见故障处理方法,帮助用户定期进行设备维护,保证其正常运行。而设备图纸则提供了设备的结构组成和布局示意图,方便用户了解设备的内部结构及部件位置。 此外,Nikon的原厂资料还可能包括一些技术白皮书、应用案例等,用于向用户介绍最新的技术发展和应用实践,促进行业的交流与发展。 总之,Nikon光刻机的原厂资料对于用户来说至关重要。它们提供了设备的详细信息和操作指南,帮助用户充分了解并熟练使用设备,最大限度地发挥设备的性能和效益。
ASML光刻机是一种非常重要的半导体设备,它在半导体器件制造领域担当着重要角色。为了能够顺利进行ASML光刻机培训,必须要了解ASML光刻机的设计原理和使用方法。 首先,在了解ASML光刻机的设计原理前,我们需要先了解阿伯特原理。阿伯特原理是指可以通过制作掩模和对其进行光刻使得光通过反射或透射的方式,到达半导体上的感光物质,从而形成模式,从而得到所需的芯片。 ASML光刻机是一种利用紫外光多重反射投影曝光技术进行微细加工的设备。其原理是将反射面上的光束由透镜组引出,同时到达被加工物体表面的角度通过调整光束的入射位置和方向来形成微细芯片图案。在制作半导体器件的时候,光刻技术是很重要的一步,可以用于光学缩微、亚微米精度制造和最终器件的板块加工等。 在ASML光刻机的使用方法方面,第一步是需要进行对光刻机的设置,即确定和装载掩模。掩模是芯片图案的一个镜像。ASML光刻机首先需要确认掩模的位置和方向与芯片上期望的位置和方向一致。接着,需要正确定位并回零所有机械部件,包括投影光学系统、工作台和对位系统。然后,进行先进设备光刻过程参数的设置,包括曝光时间、照明方法、照明功率等。 需要注意的是,ASML光刻机是一种精密高端设备,其使用需要有专业的技术人员进行操作,否则会影响芯片的质量和加工效率。因此,对于想要进行ASML光刻机培训的人士,应该在具备相关背景基础知识的前提下,并选择专业机构进行培训,以学习光刻机操作流程、光刻机维护等相关方面的知识,有一定的实操经验才能真正掌握。
### 回答1: ASML公司是全球领先的半导体设备制造商,主要生产光刻机等晶片制造设备。在ASML公司的光刻机系列产品中,常见的型号有以下几种: 1. NXT系列:包括NXT-1970Ci、NXT-1970、NXT-1970B、NXT-1970i和NXT-1980Ci等型号。这些光刻机基于ASML最新的Illuminator和Projection Lens技术,可以为半导体制造商提供高精度的晶片制造解决方案,适用于7nm工艺及以下的生产。 2. TWINSCAN系列:包括TWINSCAN XT、TWINSCAN XTS、TWINSCAN NXT等型号。这些光刻机主要应用于14nm工艺及以下的芯片生产。其特点是高可靠性和高生产效率,能够满足客户需求。 3. PAS系列:包括PAS 5000/5500、PAS 5500 MarkⅡ/MarkⅢ、PAS 5500W之类的型号。这些光刻机是ASML公司过去生产的传统光刻机型号,适用于生产28nm工艺及以上的芯片。虽然已经逐渐被NXT和TWINSCAN系列取代,但仍然广泛应用于一些客户的制造流程中。 总之,ASML提供了多种型号的光刻机,以满足客户在不同工艺节点的需求。随着半导体工艺的不断进步,ASML的光刻机技术也将不断创新,为晶片制造行业带来更先进、更高效的生产解决方案。 ### 回答2: ASML(荷兰阿斯麦公司)是全球领先的半导体制造和研发设备的供应商之一,其所生产的光刻机不仅技术先进,而且广泛应用于半导体芯片制造中。以下是ASML 光刻机型号列表: 1.ASML PAS 5000/5500:ASML的第一代光刻机,用于半导体制造的成像和曝光,适用于70纳米到2微米的芯片制造。 2.ASML Twinscan XT:该系列光刻机适用于32纳米到10纳米芯片制造,可以进行抗反射层和多层曝光。 3.ASML Twinscan NXE:这是ASML的EUV(极紫外)光刻机系列,使用13.5纳米的光源进行曝光,适用于7 纳米以下的芯片制造。 4.ASML AT: 该系列光刻机专为自动芯片制造而设计,适用于生产智能手机、平板电脑和其他移动设备芯片。 5.ASML XT: 使用双倍曝光技术的XT系列,可以提高曝光精度并增加生产效率,适用于芯片尺寸从32纳米到14纳米。 总之,ASML 的光刻机系列涵盖了从2微米到7纳米的生产尺寸,以及多层曝光、EUV技术等各种先进技术。它们在半导体制造领域中得到了广泛应用,用于生产电子产品的关键元器件。 ### 回答3: ASML光刻机是世界领先的半导体生产设备制造商之一,很多人都想了解ASML光刻机的型号列表。目前ASML光刻机型号不胜枚举,但我们可以列举出一些常见的型号: 1. 公司产品主要有ArFi光刻机、EUV光刻机和DUV光刻机,ASML的ArFi光刻机包括TwinScan NXT: 1450i、TwinScan NXT: 2030i和TwinScan NXT: 1970Ci等,EUV光刻机主要有NXE: 3350B和NXE: 3400C等型号。DUV光刻机则包括130nm到28nm节点的机型,如TWINSCAN KrF、TWINSCAN XT、TWINSCAN AT、TWINSCAN XT: 1700i和TWINSCAN NXT: 1960Ci等。 2. ASML光刻机还分为低压和高压两种类型,低压光刻机主要适用于半导体制造过程中的深紫外、紫外和可见光技术,如TWINSCAN XT、TWINSCAN AT等机型,而高压光刻机主要适用于生产较低成本的低功耗芯片,如TWINSCAN NXT: 1960Ci等机型。 3. ASML光刻机还分为4英寸、6英寸、8英寸和12英寸等尺寸,如TWINSCAN AT:3400S、TWINSCAN NXT:1460、TWINSCAN NXT:1950、TWINSCAN NXT:2000i等。 总之,ASML光刻机是半导体生产中不可或缺的重要设备之一,其型号繁多,不同型号适用于不同的生产需求,无论是在技术上和经济上都是非常优秀的选择。
### 回答1: ASML扫描仪是一种先进的光刻机设备,用于半导体芯片生产。在使用ASML扫描仪机台之前,必须接受相关的参数培训。 ASML扫描仪机台参数培训旨在教授操作人员如何正确设置和调整机台参数,以确保良好的扫描质量和生产效率。培训内容通常包括以下几个方面: 首先,培训会介绍ASML扫描仪的基本原理和工作方式。学员将了解到光刻的基本概念和流程,以及扫描仪在其中的作用。此外,还会学习光学系统、光源和镜头的工作原理,以及如何正确设置这些组件。 其次,培训将着重介绍机台参数的设置。学员将学习如何根据特定任务的要求调整光刻过程中的各种参数,例如曝光时间、光强度、对焦和对位等。掌握正确的参数设置可以最大限度地减少误差和损失,提高芯片生产的质量和效率。 此外,培训还将介绍常见的故障排除和维护技巧。学员将学会如何通过机台上的指示灯、检测器和报警系统来判断和解决问题。此外,还会教授一些基本的日常维护方法,例如清理镜头、更换滤光片等,以确保机台的正常运行和寿命。 最后,培训将提供实践操作的机会,让学员亲自操作ASML扫描仪。通过实际操作,学员可以更深入地理解参数设置的重要性,并熟悉机台的使用和调整过程。 综上所述,ASML扫描仪机台参数培训是一项关键的培训课程,可以帮助操作人员熟练掌握和操作这一先进的光刻设备。这将有助于提高芯片生产的质量和效率,满足市场需求。 ### 回答2: ASML扫描仪是一种高级的半导体制造设备,用于生产芯片和集成电路。为了正确运用这种机台,员工需要接受培训来了解机台的参数和操作。以下是关于ASML扫描仪机台参数培训的回答。 ASML扫描仪机台参数培训的目的是使员工熟悉机台的各种参数和功能。培训包括以下内容: 1. 机台参数概述:培训开始时,会介绍ASML扫描仪的基本参数,包括分辨率、曝光时间、传感器灵敏度等。这些参数决定了机台的性能和效果,员工需要了解它们的含义和影响。 2. 操作指南:培训还包括机台的操作指南,详细介绍了如何启动和关闭机台,如何调整参数和设置参数配置文件。员工将学习如何使用控制面板和软件界面来操作机台,以及如何处理常见的故障和问题。 3. 参数优化技巧:培训中还会分享一些参数优化的技巧和经验。员工将学习如何根据产品要求和生产过程进行参数调整,以获得最佳的生产效果。培训还会介绍如何使用机台的自动优化功能,以提高生产效率和成品率。 4. 安全和维护:在培训中,员工将了解保持机台安全和正常运行的关键操作和维护要点。培训将介绍如何定期清洁机台、更换耗材和维护机械部件。员工还会学习如何正确处理机台故障和异常,以保证生产的平稳进行。 ASML扫描仪机台参数培训的目的是使员工能够熟练操作机台,优化参数配置,确保产品的质量和生产效率。培训将结合理论知识和实际操作,通过案例分析和实际演练来加深员工对机台参数的理解和掌握。通过不断培训和学习,员工将能够充分利用机台的功能,提高生产的效率和成品率。 ### 回答3: ASML Scanner 机台参数培训是指对ASML扫描仪的操作参数进行培训。ASML是一家领先的半导体设备制造公司,其扫描仪用于生产中的芯片制造过程中。机台参数培训旨在确保操作人员能够正确理解和设置扫描仪的各项参数,以确保生产的稳定性和准确性。 在ASML Scanner 机台参数培训中,操作人员将学习不同参数的作用和设置方法。这些参数涉及扫描速度、解析度、焦点平面、曝光时间、校正方法等等。通过掌握这些参数,操作人员能够根据实际需求进行相应的调整,以达到理想的生产效果。 培训还包括机台的基本操作和维护知识。操作人员将学习如何正确开启和关闭机台,如何进行日常清洁和维护,以确保机台的正常运行。此外,培训还会介绍故障排除和问题解决的方法,以便操作人员能够及时应对可能出现的机台问题。 ASML Scanner 机台参数培训的目标是提高操作人员对扫描仪参数的理解和掌握程度,确保他们能够正确地调整和维护机台以满足生产需求。通过培训,操作人员将能够更加熟练地操作扫描仪,提高生产效率和产品质量。此外,培训还有助于减少机台故障和停机时间,提高生产线的稳定性和可靠性。 总之,ASML Scanner 机台参数培训对于提高操作人员的技能和知识水平,以及确保机台的正常运行和优化生产效果的重要性不言而喻。操作人员通过这种培训可以更好地应对日常操作和维护工作,并且更有信心地达到生产目标。
### 回答1: KRF光刻胶和ARF光刻胶是两种常用于半导体制造中的光刻胶。它们之间有以下几个主要区别: 1. 光敏机理:KRF光刻胶属于传统的紫外光刻胶,其光敏剂对紫外光敏感。而ARF光刻胶则是使用深紫外光进行曝光,其光敏剂对较短波长的光敏感。 2. 色差问题:由于使用不同的光源和光敏机理,KRF光刻胶在微影过程中会出现色差问题,即在同一图案中不同区域的曝光会出现颜色差异。而ARF光刻胶能够更好地解决色差问题,使得微影的结果更加一致。 3. 解析度:ARF光刻胶相比KRF光刻胶具有更高的解析度。由于其使用的深紫外光波长更短,所以ARF光刻胶在曝光后可以得到更高的分辨率,能够实现更细微的纳米级结构。 4. 抗损伤能力:ARF光刻胶在高能量光下的抗损伤能力较强。当使用高剂量的曝光时,ARF光刻胶的分子链断裂较少,能够更好地保持图案的形状和精度。 综上所述,KRF光刻胶和ARF光刻胶在光敏机理、色差问题、解析度和抗损伤能力等方面存在着明显的区别。选择使用哪种光刻胶需要根据具体的制程需求和设备条件来决定。 ### 回答2: KRF光刻胶和ARF光刻胶都是在集成电路制造中常用的光刻工艺材料。它们的主要区别在于光刻胶的感光波长不同。 KRF光刻胶是利用紫外线(波长365纳米)进行曝光的。它具有波长较长的特点,可用于制造较粗线宽的器件。KRF光刻胶的分辨率较低,一般适用于传统的集成电路制造中,如DRAM(动态随机存取存储器)等。 ARF光刻胶则是利用远紫外线(波长193纳米)进行曝光的。相较于KRF光刻胶,ARF光刻胶的波长更短,因此可以提高光刻胶的分辨率,制造更小线宽的器件。ARF光刻胶的分辨率较高,适用于现代微纳米技术领域,如先进的半导体设备制造。 此外,由于ARF光刻胶具有更短的波长,对光刻光源系统和光刻机设备的要求也更高,因此其制造成本相对较高。而KRF光刻胶则可以在传统的光刻机设备上使用,成本较低。 综上所述,KRF光刻胶和ARF光刻胶主要区别在于波长不同,分别适用于不同的集成电路制造需求。ARF光刻胶适用于现代微纳米技术,具有高分辨率,而KRF光刻胶适用于传统制造工艺,具有较低的成本。 ### 回答3: KRF光刻胶和ARF光刻胶是两种不同的光刻胶材料。光刻胶是一种用于光刻工艺中的涂覆材料,可以在半导体制造过程中进行图案转移。 首先,KRF光刻胶是针对紫外光刻工艺开发的,而ARF光刻胶则是专门用于深紫外光刻工艺的材料。紫外光刻工艺一般使用波长为248nm或193nm的光源,而深紫外光刻工艺则使用波长更短的172nm或蓝宝石激光。 其次,KRF光刻胶和ARF光刻胶在化学配方上也有所不同。ARF光刻胶通常采用含有氟化物的化合物作为关键成分,以提高其抗干涉效果和提高解析度,因而可以在制造更小尺寸的芯片上实现更精细的图案。 此外,由于ARF光刻胶处理的波长更短,它具有更高的吸收率和较小的衍射效应,因此具有更好的图案准确性和边缘清晰度。这使得ARF光刻胶适用于制造超大规模集成电路和高密度存储器等高要求的芯片。 总的来说,KRF光刻胶适用于波长较长的紫外光刻工艺,而ARF光刻胶适用于波长更短的深紫外光刻工艺。ARF光刻胶在分辨率和图案准确性方面具有更高的性能,适用于制造更小尺寸和更高密度的芯片。
衍射极限附近的光刻工艺是一种在光学技术领域中非常重要的工艺方法。光刻工艺是指利用光学原理和技术,通过光源、掩模和光学透镜等装置对物体进行光照,然后通过一系列的光学变换将物体的形状、尺寸等信息转化为可见图像或模式的过程。而衍射极限附近的光刻工艺则是指在光刻过程中,通过精细调控的方法接近和达到衍射极限,从而实现更高分辨率、更精细图案的制作。 在传统的光刻工艺中,由于光的波长限制和光学透镜的特性,制作出的图案分辨率有一定的上限。然而,随着微电子技术和纳米技术的发展,对于更小、更精细的图案需求不断增加。衍射极限附近的光刻工艺应运而生,其通过改变光源、掩模和光学透镜等元件的参数,使得入射光在衍射极限附近发生更加复杂的波动和干涉现象,从而使得制作出的图案的特征尺寸能够逼近或超越传统光刻工艺的分辨率上限。 实现衍射极限附近的光刻工艺需要的条件有很多,例如使用更短波长的光源、更高精度的掩模制作技术、更高质量的光学透镜等。同时,衍射极限附近的光刻工艺也要求对光刻机的控制系统进行更精细的调整和优化。这些技术的发展和应用,使得纳米级别的图案制作成为可能,为微电子、光电子、传感器等领域带来了更加广阔的应用前景。 总的来说,衍射极限附近的光刻工艺在微电子技术和纳米技术领域具有重要意义,它的应用将推动科学技术的进步和发展。
lithography-100型紫外光刻机使用规则包括以下几个方面的内容: 1. 操作环境:确保使用光刻机的实验室环境整洁、无尘,温度适宜,并且保持恒温、恒湿。 2. 机器启动与关闭:在使用光刻机之前,需要进行正确启动和关闭的步骤。启动前需要检查设备的电源和相关仪器是否正常,关闭时要按正确的顺序关机,防止损坏设备。 3. 样品准备:确保要进行光刻的样品的平整度和干净度。将样品固定在光刻机的台面上,并根据要求进行调节。 4. 曝光参数选择:根据要素图案的要求,选择合适的曝光参数,包括曝光时间、曝光能量等。这些参数会影响曝光的质量和准确性。 5. 探测器和控制系统:熟悉并掌握光刻机的探测器和控制系统的使用方法和原理,确保能够准确的检测和记录曝光过程中的各项参数。 6. 安全操作:使用光刻机时,要佩戴适当的个人防护装备,如手套和安全眼镜,确保自己的安全。并且要保持清洁,避免在操作时造成样品或者设备的损坏。 7. 维护和保养:定期对光刻机进行维护和保养,包括清洁和润滑。当发现机器有异常时,及时联系维修人员进行检修。 总的来说,使用lithography-100型紫外光刻机需要注意环境、启动与关闭、样品准备、曝光参数选择、探测器和控制系统、安全操作以及维护和保养等方面的规则。只有正确操作和维护,才能保证光刻机的正常运行并获得高质量的光刻结果。

最新推荐

对于镜头的MTF曲线分析和原理介绍.pdf

相机介绍了锐度,对比度,分辨率,以及MTF曲线的各项意义,并且结合图文的方式,让你能够直观的学习和了解。

【光刻】EUV PHOTO Source Presentation.pptx

先进光刻工艺EUV相关知识,适合对半导体工艺有兴趣的人员,或者是从事光刻工艺的工程师

单链表的修改操作代码.md

单链表的修改操作代码

代码随想录最新第三版-最强八股文

这份PDF就是最强⼋股⽂! 1. C++ C++基础、C++ STL、C++泛型编程、C++11新特性、《Effective STL》 2. Java Java基础、Java内存模型、Java面向对象、Java集合体系、接口、Lambda表达式、类加载机制、内部类、代理类、Java并发、JVM、Java后端编译、Spring 3. Go defer底层原理、goroutine、select实现机制 4. 算法学习 数组、链表、回溯算法、贪心算法、动态规划、二叉树、排序算法、数据结构 5. 计算机基础 操作系统、数据库、计算机网络、设计模式、Linux、计算机系统 6. 前端学习 浏览器、JavaScript、CSS、HTML、React、VUE 7. 面经分享 字节、美团Java面、百度、京东、暑期实习...... 8. 编程常识 9. 问答精华 10.总结与经验分享 ......

基于交叉模态对应的可见-红外人脸识别及其表现评估

12046通过调整学习:基于交叉模态对应的可见-红外人脸识别Hyunjong Park*Sanghoon Lee*Junghyup Lee Bumsub Ham†延世大学电气与电子工程学院https://cvlab.yonsei.ac.kr/projects/LbA摘要我们解决的问题,可见光红外人重新识别(VI-reID),即,检索一组人的图像,由可见光或红外摄像机,在交叉模态设置。VI-reID中的两个主要挑战是跨人图像的类内变化,以及可见光和红外图像之间的跨模态假设人图像被粗略地对准,先前的方法尝试学习在不同模态上是有区别的和可概括的粗略的图像或刚性的部分级人表示然而,通常由现成的对象检测器裁剪的人物图像不一定是良好对准的,这分散了辨别性人物表示学习。在本文中,我们介绍了一种新的特征学习框架,以统一的方式解决这些问题。为此,我们建议利用密集的对应关系之间的跨模态的人的形象,年龄。这允许解决像素级中�

rabbitmq客户端账号密码

在默认情况下,RabbitMQ的客户端账号和密码是"guest"。 但是,默认情况下,这个账号只能在localhost本机下访问,无法远程登录。如果需要添加一个远程登录的用户,可以使用命令rabbitmqctl add_user来添加用户,并使用rabbitmqctl set_permissions设置用户的权限。<span class="em">1</span><span class="em">2</span><span class="em">3</span> #### 引用[.reference_title] - *1* *2* *3* [保姆级别带你入门RabbitMQ](https:

数据结构1800试题.pdf

你还在苦苦寻找数据结构的题目吗?这里刚刚上传了一份数据结构共1800道试题,轻松解决期末挂科的难题。不信?你下载看看,这里是纯题目,你下载了再来私信我答案。按数据结构教材分章节,每一章节都有选择题、或有判断题、填空题、算法设计题及应用题,题型丰富多样,共五种类型题目。本学期已过去一半,相信你数据结构叶已经学得差不多了,是时候拿题来练练手了,如果你考研,更需要这份1800道题来巩固自己的基础及攻克重点难点。现在下载,不早不晚,越往后拖,越到后面,你身边的人就越卷,甚至卷得达到你无法想象的程度。我也是曾经遇到过这样的人,学习,练题,就要趁现在,不然到时你都不知道要刷数据结构题好还是高数、工数、大英,或是算法题?学完理论要及时巩固知识内容才是王道!记住!!!下载了来要答案(v:zywcv1220)。

通用跨域检索的泛化能力

12056通用跨域检索:跨类和跨域的泛化2* Soka Soka酒店,Soka-马上预订;1印度理工学院,Kharagpur,2印度科学学院,班加罗尔soumava2016@gmail.com,{titird,somabiswas} @ iisc.ac.in摘要在这项工作中,我们第一次解决了通用跨域检索的问题,其中测试数据可以属于在训练过程中看不到的类或域。由于动态增加的类别数量和对每个可能的域的训练的实际约束,这需要大量的数据,所以对看不见的类别和域的泛化是重要的。为了实现这一目标,我们提出了SnMpNet(语义Neighbourhood和混合预测网络),它包括两个新的损失,以占在测试过程中遇到的看不见的类和域。具体来说,我们引入了一种新的语义邻域损失,以弥合可见和不可见类之间的知识差距,并确保潜在的空间嵌入的不可见类是语义上有意义的,相对于其相邻的类。我们还在图像级以及数据的语义级引入了基于混�

lua tm1637

TM1637是一种数字管显示驱动芯片,它可以用来控制4位7段数码管的显示。Lua是一种脚本语言,可以用于嵌入式系统和应用程序的开发。如果你想在Lua中使用TM1637驱动数码管,你需要先获取一个适配Lua的TM1637库或者编写自己的驱动代码。然后,你可以通过该库或者代码来控制TM1637芯片,实现数码管的显示功能。

TFT屏幕-ILI9486数据手册带命令标签版.pdf

ILI9486手册 官方手册 ILI9486 is a 262,144-color single-chip SoC driver for a-Si TFT liquid crystal display with resolution of 320RGBx480 dots, comprising a 960-channel source driver, a 480-channel gate driver, 345,600bytes GRAM for graphic data of 320RGBx480 dots, and power supply circuit. The ILI9486 supports parallel CPU 8-/9-/16-/18-bit data bus interface and 3-/4-line serial peripheral interfaces (SPI). The ILI9486 is also compliant with RGB (16-/18-bit) data bus for video image display. For high speed serial interface, the ILI9486 also provides one data and clock lane and supports up to 500Mbps on MIPI DSI link. And also support MDDI interface.