smic工艺库工艺参数表

很抱歉，根据提供的引用内容，我没有找到关于SMIC工艺库工艺参数表的信息。引用内容主要涉及TSMC的工艺库和相关文档，没有提及SMIC。如果您需要关于SMIC工艺库的信息，建议您查阅SMIC官方文档或联系SMIC的技术支持部门以获取准确的工艺参数表。
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- *1* *2* *3* [【转】65nm TSMC工艺库文件概要](https://blog.csdn.net/weixin_38753095/article/details/107094109)[target="_blank" data-report-click={"spm":"1018.2226.3001.9630","extra":{"utm_source":"vip_chatgpt_common_search_pc_result","utm_medium":"distribute.pc_search_result.none-task-cask-2~all~insert_cask~default-1-null.142^v91^koosearch_v1,239^v3^insert_chatgpt"}} ] [.reference_item]
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dc smic 工艺库

DC SMIC工艺库是由美国Design Compiler和中国SMIC公司合作开发的一种集成电路设计工艺库。它是针对数字集成电路设计的工艺库，主要应用于芯片设计、尤其是高综合的数字电路设计。DC SMIC工艺库结合了Design Compiler的强大综合能力和SMIC公司在工艺方面的经验，能够提供高性能、低功耗和良好的可靠性。它可以支持数字集成电路的快速设计和优化，在提高设计效率的同时，还能够满足不同应用场景下的性能需求。

DC SMIC工艺库采用了先进的工艺技术，具有较小的晶体管特性变化和良好的工艺偏移控制能力，能够为设计师提供高度可预测性和可重现性的设计环境。同时，该工艺库还支持了多种器件单元和库元，使得设计人员可以根据实际应用需求选择最合适的元件和工艺参数。DC SMIC工艺库也提供了详细的设计规则和工艺限制，帮助设计人员在设计过程中遵循工艺要求，降低设计风险。

总的来说，DC SMIC工艺库是一种结合了高性能综合能力和先进工艺技术的集成电路设计工艺库，能够为设计人员提供快速、高效的数字电路设计平台，并且在性能、功耗和可靠性等方面具有良好的表现。

smic18mmrf工艺参数表

smic18mmrf工艺参数表是关于SMIC（中芯国际）公司生产的18nm射频工艺的详细参数表。该工艺是一种先进的射频工艺，适用于高性能射频集成电路的制造。

以下是smic18mmrf工艺参数表的一些主要参数：
1. 工艺节点：18纳米
2. 金属层数：8层金属
3. 最小金属线宽：0.018微米
4. 最小间距：0.018微米
5. 最小M1-M1间距：0.036微米
6. 最小M1-M2间距：0.036微米
7. 最小M2-M2间距：0.036微米
8. 电阻层：4层电阻层
9. 电容层：4层电容层
10. 最小电容间距：0.036微米
11. 最小电容线宽：0.018微米
12. 最小电感线宽：0.018微米
13. 最小电感间距：0.036微米
14. 最小接地间距：0.036微米

这些参数可以帮助设计工程师了解smic18mmrf工艺的特点和限制，以便在设计射频集成电路时进行合理的布局和布线。