膜厚和OCD检测是什么

膜厚（Film Thickness）是指半导体制造过程中涂覆在晶圆或器件表面的薄膜层的厚度。膜厚的精确控制对于确保器件的性能和功能至关重要。在半导体制造中，不同的薄膜层可能需要具有特定的膜厚，以满足设计要求和工艺规范。膜厚通常以纳米（nm）为单位进行表示。

OCD检测（Optical Critical Dimension metrology）是一种用于测量和控制微细结构尺寸的技术。在半导体制造中，器件的性能和功能往往与微细结构的尺寸有着密切的关系。OCD检测技术利用光学技术来测量微细结构的尺寸，并提供高精度和非接触式的测量方法。

OCD检测通常使用光学反射或透射的原理，并通过测量反射或透射光的特征来确定结构的尺寸。这种技术可以用于测量各种微细结构，包括线条、孔洞、栅极等。通过对薄膜层进行OCD检测，可以确保其膜厚符合设计要求，并在制造过程中实现精确的尺寸控制。OCD检测在半导体制造中起着重要的作用，帮助确保器件的质量和性能。