写个unity中有遮罩效果的顶点扰动代码

在Unity中，要创建一个有遮罩效果的顶点扰动，通常涉及到UV贴图和自定义渲染器。这里是一个非常基础的示例，我们将使用粒子系统（ParticleSystem）作为遮罩，然后在Shader中对顶点进行简单扰动：

首先，创建一个粒子系统并设置它的形状、颜色等属性以模拟遮罩效果。

public class MaskParticleSystem : MonoBehaviour
{
    public ParticleSystem maskParticles;
}

接下来，在Shader（如Standard Shader）中添加一个额外的变量来接收遮罩影响，并处理顶点扰动：

Shader "Custom/MaskedVertices" {
    Properties {
        _MainTex ("Base (RGB)", 2D) = "white" {}
        _MaskTex ("Mask Texture", 2D) = "white" {}
    }

    SubShader {
        Tags {"Queue"="Transparent" "RenderType"="Opaque"}
        LOD 100

        Pass {
            CGPROGRAM
            #pragma vertex vert
            #pragma fragment frag
            #include "UnityCG.cginc"

            struct appdata {
                float4 vertex : POSITION;
                float2 uv : TEXCOORD0;
            };

            struct v2f {
                float2 uv : TEXCOORD0;
                float4 vertex : SV_POSITION;
            };

            sampler2D _MainTex;
            sampler2D _MaskTex;

            v2f vert (appdata v) {
                v2f o;
                o.vertex = UnityObjectToClipPos(v.vertex);
                o.uv = TRANSFORM_TEX(v.uv, _MainTex);
                return o;
            }

            fixed4 frag (v2f i) : SV_Target {
                fixed4 col = tex2D(_MainTex, i.uv);

                // 这里假设_maskTex_的Alpha通道用于遮罩
                fixed alpha = tex2D(_MaskTex, i.uv).a;

                // 对顶点进行简单的扰动，例如加法偏移
                float2 offset = float2(alpha * 0.1, alpha * 0.1); // 遮罩程度越大，偏移越明显
                i.vertex += UnityObjectToClipPos(float4(offset, 0, 1));

                return col;
            }
            ENDCG
        }
    }
    FallBack "Diffuse"
}

这只是一个简化的例子，实际应用中可能需要更复杂的算法来处理遮罩效果。