PV,PI,LVS,DRC,ERC

PV指的是“Process Variation”，是指半导体制造过程中造成芯片性能变化的因素。PI指的是“Power Integrity”，是指芯片电源和地的稳定性，确保电源的分布和接地符合设计要求。LVS指的是“Layout vs. Schematic”，是指通过比较电路原理图和版图设计之间的一致性来验证芯片设计的正确性。DRC指的是“Design Rule Check”，是指通过检查芯片版图设计是否符合制造工艺的规则和限制来确保芯片能够被成功制造。ERC指的是“Electrical Rule Check”，是指通过检查芯片版图设计的电气规则，例如电流、电压等是否符合设计要求。