光罩 tis mark

光罩，又称作遮光器或光掩蔽层，是在半导体制造过程中使用的一种关键工具。它被用于光刻步骤，用来控制光线的传播路径并限制光线的照射区域，从而在半导体上形成所需的微细结构和电路。

在光刻工艺中，光罩被制成的薄膜上涂覆了一层光敏剂。通过利用光源照射在光罩上的图案，光线会透过光罩上的不同区域，然后经过光学透镜投射到在光刻胶上。经过光刻胶曝光和显影等步骤后，通过化学加工，所形成的图案和结构被转移到半导体材料上，以创建电路和元件。

光罩的精确性和稳定性对半导体制造至关重要。它必须具备高度的光阻隔性能，避免光线泄漏到非目标区域，保证微细结构的精确性。此外，光罩上的图案设计以及其制造的精度也对成品产品的质量和性能有着重要影响。

随着微电子技术的不断发展，光罩制造技术也在不断演进。制造高分辨率、高密度的光罩需要精密的曝光和制造技术。在半导体制造中，光罩的使用与其制造过程密切相关，是确保先进微电子产品制造的关键环节之一。

总之，光罩在半导体制造中起着至关重要的作用。它通过控制光线传播路径和限制光线照射区域，帮助实现了微小而精确的电路和元件结构，为现代电子产品的制造提供了关键支持。