0.5NA极紫外光刻物镜公差分析：8个补偿器实现纳米级精度

本文主要探讨了超大数值孔径极紫外光刻物镜（NA > 0.45）在实现11纳米光刻技术节点中的关键作用，以及高精度成像对物镜系统公差的极高要求。针对一套具有数值孔径为0.50的极紫外投影物镜，研究者进行了深入的公差分析，以确保系统的精密性能。 文章的核心技术手段是通过奇异值分解（Singular Value Decomposition, SVD）处理敏感元件的结构参数构成的灵敏度矩阵。由于物镜系统包含众多结构参数，而SVD方法需要结构参数的数量少于像差的数量，因此，研究者首先识别出系统的关键敏感元件，然后选择这些元件对应的结构参数来构建灵敏度矩阵。通过这种方式，他们能够找到有效的像质补偿器组合，以抵消因制造公差带来的像质下降。 作者利用CODE V软件进行公差分配，结果显示，在97.7%的置信概率下，系统波像差的均方根值被控制在0.5纳米以下，显示了高度的稳定性。最严格的公差控制达到了微米级和微弧度级，这是对极紫外光刻技术的重要贡献，因为这确保了极紫外光刻的极高分辨率得以维持。 关键词方面，文章聚焦于光学设计、公差分析、奇异值分解以及极紫外光刻技术的应用。研究成果对于推动极紫外光刻工艺的发展，特别是在纳米级别的制造精度上，具有重要的实际意义。 这篇论文提供了一种有效的方法来优化极紫外光刻物镜的公差控制，这对于提升光刻技术的精度和可靠性具有深远影响。