磁流变效应微磨头集群平面抛光技术研究

"集群磁流变效应微磨头平面研抛加工技术的研究" 本文"Development of a new plate polishing technique with an instantaneous tiny-grinding wheel cluster based on magnetorheological effect"主要探讨了一种基于磁流变效应的新颖平面抛光技术，该技术采用瞬时微型磨轮集群，对传统的研抛工艺进行了革新。作者阎秋生、汤爱军等人通过实验验证了这种新技术的有效性和实用性。 磁流变效应（Magnetorheological，简称MR）是一种材料性质在磁场作用下迅速改变的现象，通常用于流体控制，如磁流变液。在本研究中，MR效应被巧妙地应用于微磨头设计，形成了一种即时的、微小磨粒组成的磨轮集群，能够实现更精细、高效的抛光效果。 实验结果显示，与传统采用分离磨料颗粒的抛光方法相比，该新技术的材料去除率提高了20.84%，这意味着在保持工作效率的同时，能更快速地去除工件表面的多余材料。值得注意的是，尽管效率提升，但工件的表面粗糙度并未明显增加，这表明新方法在保持加工精度方面也具有优势。 为了优化抛光性能，研究人员还对磁流变液的复合材料进行了调整，以找到最佳的抛光配方。基于实验数据，他们提出了新的平板抛光技术的材料去除模型，这个模型对于理解和优化抛光过程具有重要的理论指导意义。 关键词：微型磨轮集群、磁流变效应、平面抛光 这项研究创新性地将磁流变效应引入到精密抛光领域，开发出一种新型的抛光工具，显著提高了加工效率，并且在不牺牲表面质量的情况下，实现了更好的材料去除控制。这一成果对于提升精密制造中的表面处理水平，特别是在微纳米级别的精密加工领域，具有重大的实践价值和理论贡献。