全球光刻胶市场趋势：中国本土企业发展机遇

"光刻胶是半导体、显示面板和PCB制造中的关键材料，全球市场规模持续增长，中国本土供应量年增长率高于全球平均水平。光刻胶主要由光引发剂、树脂、单体、溶剂和助剂组成，通过光化学反应在基材上形成微细图形。光刻胶类型多样，包括PCB光刻胶、显示面板光刻胶和半导体光刻胶。在平板显示行业中，使用彩色及黑色光刻胶等；在PCB行业中，干膜和湿膜光刻胶各有应用；在半导体集成电路制造中，使用g线、i线、KrF和ArF等不同类型的光刻胶。中国本土企业在光刻胶市场的份额虽有提升，但主要集中在PCB用光刻胶，半导体和显示面板用光刻胶仍有较大提升空间。" 光刻胶在半导体行业的应用中起着至关重要的作用。半导体制造过程中的光刻工艺，依赖于光刻胶将图案从掩模版转移到硅片上。曝光过程使得光刻胶在特定区域发生化学变化，经过显影步骤后，未受光的部分被去除，留下抵抗蚀刻的保护层。随着半导体技术的发展，对光刻胶的分辨率要求不断提高，因此出现了各种类型的光刻胶，例如g线、i线光刻胶用于早期的微米级别制程，而KrF和ArF光刻胶则对应更先进的纳米级别制程。 在显示面板制造中，光刻胶同样不可或缺。彩色及黑色光刻胶用于形成彩色滤光片，LCD触摸屏用光刻胶和TFT-LCD正性光刻胶用于构建液晶显示屏的电路结构。这些光刻胶确保了屏幕显示的精确性和色彩一致性。 在PCB制造领域，干膜光刻胶、湿膜光刻胶和感光阻焊油墨等不同类型的光刻胶各有其特点。干膜光刻胶具有良好的耐热性和机械稳定性，适合高精度的线路制作；湿膜光刻胶因其高分辨率和较低成本，逐渐在部分应用中替代干膜。 光刻胶作为电子制造的关键材料，其性能直接影响到最终产品的质量和生产效率。随着技术进步和市场需求的变化，中国本土光刻胶企业面临着提升产品技术含量，拓宽应用领域的挑战，以满足半导体、显示面板和PCB行业日益增长的需求。同时，全球光刻胶市场将持续扩大，为中国企业提供更大的发展机遇。