宽禁带半导体崛起:SiC与GaN的发展前景与投资机遇
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更新于2024-06-22
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宽禁带半导体行业深度报告由中泰证券于2019年10月21日发布,重点关注碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)这两种新型半导体材料的兴起和发展趋势。报告指出,尽管硅(Si)作为集成电路的基础材料在信息产业中占据核心地位,但其存在诸如光学性能和高压高频性能方面的局限性。第三代半导体的出现,特别是SiC和GaN,因其能够弥补硅的不足,逐渐成为半导体行业关注的焦点。
SiC的独特优势在于它能显著降低电能转换过程中的能量损耗,有助于小型化设计,并具有更高的耐高温和高压性能。在汽车行业,基于SiC的解决方案相较于传统方案能提升系统效率,减轻重量,因此具有巨大的市场潜力。此外,随着制备技术的进步,SiC器件的成本已趋于可接受,这将进一步推动市场需求的增长。
报告还分析了三安光电、扬杰科技和捷捷微电等公司的相关情况。三安光电被给予“增持”评级,其股价、每股收益和市盈率反映了市场对其发展前景的看好。扬杰科技和捷捷微电分别被评为“未评级”和“买入”,表明分析师认为这些公司在宽禁带半导体领域具有投资价值。
整体来看,随着5G通信、新能源汽车等新兴市场的快速发展,SiC和GaN在未来有着广阔的应用前景和商业机会。投资者和制造商应密切关注这两种材料及其相关技术的发展,以把握行业的战略机遇。报告建议密切关注行业动态和成本变化,以便及时调整投资策略。
2021-09-01 上传
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