紫外激光优化非晶IZO薄膜电学性能：实验与分析

紫外激光辐照对非晶IZO薄膜电学性质的影响是一个重要的研究领域，由夏鹏、马剑钢、薛金玲和林东等人合作完成。他们的研究采用溶胶-凝胶法制备非晶铟锌氧（IZO）透明导电薄膜，并利用深紫外激光进行后续处理。这项工作基于一系列国家级和省级基金支持，包括国家自然科学基金、国家教育技术委员会基金、国家重大科学研究计划以及吉林省科技发展计划等。 研究过程中，通过X射线衍射仪、紫外-可见光吸收光谱仪、霍尔效应测试仪和傅立叶红外光谱仪等精密仪器，研究人员详细探讨了激光处理前后的薄膜微观结构变化、电学和光学性质，以及有机物共价键的潜在影响。值得注意的是，尽管激光处理并未改变薄膜的非晶结构，但是248nm深紫外激光的辐射显著提升了薄膜的电学性能。这主要是由于高能光子在低温退火过程中有效地消除了有机残留物，减少了薄膜表面吸附的氧浓度，进而提高了载流子浓度和迁移率。 最终，通过优化退火条件，他们在250℃下制备出具有优异光电性能的非晶IZO透明导电薄膜，其电阻率低至2.01×10-2Ω•cm，550nm处的透过率高达92.7%。这一成果对于开发高效、透明的电子器件具有重要意义，如触摸屏、太阳能电池和光电器件等领域。 该研究的关键术语包括“透明导电薄膜”、“溶胶凝胶法”、“非晶IZO”以及“深紫外激光辐照”，这些词汇在材料科学和光电子学中都是核心概念。这项首发论文不仅展示了激光处理在薄膜改性中的应用潜力，也为未来相关领域的研究提供了新的思路和技术路线。