半导体基础知识:PN结的伏安特性与应用
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更新于2024-08-20
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"这篇内容主要介绍了半导体的基础知识,特别是PN结的伏安特性以及半导体二极管的相关概念,包括正偏、反偏、反向饱和电流、反向击穿电压和击穿现象。"
在电子技术领域,半导体是至关重要的组成部分,其中PN结的伏安特性是理解半导体器件工作原理的关键。PN结是由P型半导体(多空穴,少电子)和N型半导体(多电子,少空穴)接触形成的结构。当PN结正偏置时,外部电源使P区的空穴向N区扩散,N区的电子向P区扩散,形成较大的正向电流IF,这个过程主要由多子扩散主导。同时,少量的电子和空穴会因电场作用而反向漂移,形成反向电流IR,但通常远小于扩散电流。
在反偏状态下,PN结的内部电场阻止多子扩散,使得只有少量的反向饱和电流通过,这个电流很小且几乎不随外加电压变化。如果反向电压增加到一定程度,PN结会发生反向击穿,分为电击穿和热击穿两种情况。电击穿是由于高电场强度导致载流子倍增效应,通常是可逆的;而热击穿则是由于热应力导致PN结损坏,是不可逆的,会烧坏器件。
半导体二极管是基于PN结工作的基本元件,具有单向导电性,即在正向电压下导通,在反向电压下截止或只允许很小的反向电流通过。这种特性在电路中被广泛应用,如整流、稳压、开关等用途。
1.1.1 本征半导体是指没有掺杂任何杂质的半导体,如硅(Si)和锗(Ge)。在绝对零度,本征半导体几乎没有自由电子,导电性能较差。随着温度升高或光照增强,部分电子能挣脱共价键形成自由电子和空穴,参与导电,这称为本征激发。自由电子和空穴共同构成了载流子,决定了半导体的导电性。
1.1.2 杂质半导体通过掺杂不同类型的杂质元素改变半导体的性质。N型半导体是在本征半导体中掺杂五价元素(如磷、砷),增加自由电子数量,使得电子成为多数载流子,而空穴成为少数载流子。这种掺杂方式增强了半导体的导电性,N型半导体常用于电子设备中的导电路径。
半导体的性质和行为,尤其是PN结的伏安特性,是电子工程和微电子学研究的基础,对理解和设计各种半导体器件,如二极管、晶体管、场效应管等,具有重要意义。
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条之
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