新型PCB曝光机均匀照明系统：仿真与优化研究

"赵新才等人在2010年的文章中探讨了PCB曝光机照明系统的均匀性仿真与研究，他们应用非成像光学设计方法，以提高印刷电路板制造工艺中的关键设备——紫外线曝光机的性能。通过使用基于蒙特卡罗法的光线追迹软件，他们开发了一种新型的均匀照明系统，并通过模拟仿真验证了其在提高光强分布均匀性和稳定性方面的效果。这一设计满足了光学曝光过程对光源指标的要求，具有实际操作价值。" 在当前的电子信息行业中，产品的高性能化需求推动了印刷电路板（PCB）的高密度和微线化发展。紫外线曝光机在PCB制造工艺中扮演着至关重要的角色，因为它在光学曝光阶段确保了光照度的均匀性。光学曝光是PCB制作的关键步骤之一，对于光照强度的均匀性有非常严格的要求。 赵新才等研究人员采用了非成像光学的设计理念，旨在解决传统曝光机在光照均匀性上的挑战。非成像光学是一种不依赖于形成清晰图像的光学设计方法，它更关注光能的分布和利用效率，特别适用于需要大范围均匀照明的场景。通过这种设计，他们创建了一个新型的曝光机照明系统，旨在改善紫外光源的配光性能。 在设计过程中，研究人员运用了基于蒙特卡罗法的光线追迹软件进行仿真。蒙特卡罗法是一种统计模拟方法，常用于光学系统的分析和设计，能有效地模拟光线的传播路径，从而预测光强分布情况。通过这种仿真，他们能够评估照明系统的性能，优化光源布局，确保光强分布的均匀性和稳定性。 实验结果表明，采用这种新设计的照明系统确实能够提升PCB曝光机的性能，使得紫外光源的光照强度分布更加均匀且稳定。这不仅满足了光学曝光工艺对于光源指标的严格要求，也证明了该设计方案在实际操作中的可行性。这一研究对于提升PCB制造的质量和效率，以及推动电子信息产业的进步具有重要意义。 关键词：PCB曝光机；Lighttools软件；照明仿真；照明均匀性 中图分类号：O434.2 文献标识码：A doi：10.3969/j.issn.10055630.2010.04.012