GEF插件开发入门：从HelloWorld到RCP编辑器

"GEF开发指南-插件开发.pdf" 这篇文档主要介绍了如何使用GEF (Graphical Editing Framework) 在Eclipse RCP (Rich Client Platform) 上开发图形化编辑器。GEF是一个强大的框架，用于构建图形化用户界面，特别适用于创建复杂的图形编辑工具。文档适合初级和中级开发者，从简单的“HelloWorld”示例开始，逐步引导读者掌握GEF的使用。 首先，文档指出在开始之前需要确保具备合适的开发环境，包括JDK 1.5或以上版本，Eclipse 3.1.0及以上，GEF 3.1.0，Draw2D（包含在GEF中），以及EMF 2.1.0。这些是开发GEF插件的基础工具和库。 接着，教程详细讲解了如何创建一个RCP工程。首先，选择创建一个新的“Plug-in Project”，并命名为“gef.tutorial.stepz”。在创建过程中，需在“RichClientApplication”选项中选择“Yes”，以表明这是一个RCP应用程序。然后，选择模板“HelloRCP”并完成工程创建。 在创建RCP工程后，为了使用GEF，需要在工程的依赖性设置中添加org.eclipse.gef插件。在plugin.xml文件的“dependencies”页面，通过“Add…”功能添加GEF 3.1.0版本。 接下来，文档进入了关键步骤，即创建编辑器（Editor）。通常，图形界面的开发会基于Editor进行，因为它提供了文件保存机制以及图形修改后的保存提示（脏标志处理）。虽然有些开发者可能更倾向于在View上绘制图形，但文档指出Editor是基于EditorPart类的，因此更适合处理这类需求。 在创建Editor的过程中，开发者将学习如何定义图形模型、实现绘图逻辑以及响应用户交互。GEF提供了模型-视图-控制器（MVC）架构，使得开发者可以清晰地分离数据模型、图形表示和用户交互处理。 此外，文档还可能涉及了其他高级特性，如自定义手势、命令框架、图元工厂和连接器的实现，以及如何利用EMF生成和管理数据模型。所有这些内容都是为了帮助开发者理解如何利用GEF构建可扩展且功能丰富的图形编辑器。 这份GEF开发指南是为那些希望通过Eclipse RCP平台构建图形化应用的开发者准备的。它从基础开始，逐步深入，让读者能够逐步掌握使用GEF开发图形编辑器的全过程。