正弦调制激光下KDP晶体三维温度场解析及影响因素分析

本文主要探讨了正弦调制激光辐照KDP晶体的三维温度场解析研究。KDP（钾酸钠双偏振器）晶体是一种重要的各向异性材料，在光学和光热学领域有广泛应用。研究者基于正交各向异性材料的热传导理论，利用积分变换方法，成功地获得了正弦调制激光照射下KDP晶体瞬态温度场的解析表达式。这种解析表达式对于理解和控制激光与晶体相互作用过程中的热效应至关重要。 通过MATLAB软件的数值模拟，作者分析了调制激光的关键参数如光斑半径、功率以及频率对其影响。实验结果显示，当正弦调制激光照射KDP晶体时，晶体内部的温度随着时间呈现出阶梯状变化，随后趋于稳定并形成周期性分布。这个过程表明，激光的功率和光斑尺寸直接影响晶体温度的变化，光斑减小和功率增大都会导致温度升高。这对于理解KDP晶体在光热位移技术中的响应特性具有重要意义。 光热位移技术是一种利用光的热效应来测量材料物理性质或进行微小位移检测的技术。在实际应用中，如精密测量和微机械操作，精确控制和预测温度场是关键。这篇论文的成果为将光热位移技术应用于KDP晶体的光热学测量提供了理论依据，有助于优化相关设备的设计和提高测量精度。 本文的研究不仅深化了我们对正弦调制激光与KDP晶体相互作用的理解，还为提高光热位移技术在KDP晶体领域的应用性能提供了科学指导。在未来的研究中，这些发现可能会推动相关领域的进一步发展，尤其是在光子学、微纳技术以及材料科学等领域。