遗传算法优化微反射镜阵列角分布：提升光刻效率

"基于遗传算法的微反射镜阵列角位置分布算法" 本文主要探讨了在28纳米及以下节点的浸没光刻机中，如何利用微反射镜阵列（Micro Mirror Array，简称MMA）优化自由光瞳照明技术，以提高光刻分辨率。自由光瞳照明技术是一种重要的分辨率增强技术，它通过调节MMA来调整光束的角谱，从而实现任意照明模式。MMA的角位置分布是决定这种技术性能的关键因素。 文章提出了一种基于遗传算法的MMA角位置分布算法。遗传算法是一种模拟自然选择和遗传机制的优化方法，它通过模拟生物进化过程中的“适者生存”原则，进行多轮迭代以寻找最佳解决方案。相较于传统的基于模拟退火算法的方法，新提出的遗传算法在求解速度上有了显著提升，迭代速度提高了10倍以上，这使得在实际应用中能够更快地找到最优的MMA角位置分布。 该遗传算法的优势在于，它能够精确地复现目标光瞳的强度分布，确保光束经过MMA后的角度分布符合预期。实验结果显示，使用该算法计算出的MMA角位置分布，在光刻性能仿真中，无论是对于数千种不同的光刻胶曝光图形，还是对于关键尺寸的控制，都有出色的表现。具体来说，算法光瞳和目标光瞳的光刻胶曝光图形不对称性的方均根（RMS）值基本保持一致，关键尺寸差异分布的RMS值均小于0.5纳米，这意味着光刻精度非常高，这对于微纳制造领域至关重要。 关键词涵盖了测量、浸没光刻、自由光瞳照明、微反射镜阵列以及角位置分布算法，这些都是文章核心内容的关键词，表明了研究的主要方向和技术关键点。文章的分类号O439和文献标志码A则进一步明确了该研究属于光学领域的基础和应用研究。 这项工作在光刻技术的优化方面取得了显著的进步，通过遗传算法提高了MMA角位置分布的计算效率和精度，有助于推动下一代半导体制造工艺的发展。