安集科技：半导体 CMP 抛光液国产突破，受益于产业高速发展

本文主要探讨了科创板化工新材料领域中的明星企业——安集科技，专注于化学机械抛光液(CMP抛光液)和光刻胶去除剂的生产。作为国内 CMP 抛光液的领军企业，安集科技凭借其在国内半导体产业快速发展中的关键角色，正在打破国外垄断，为中国半导体产业链带来积极影响。 首先，公司在国内 CMP 抛光液市场占据重要地位，产能9435.29吨，尤其是铜及铜阻挡层系列产品的产能充足，显示出稳定的生产能力。其客户群广泛，包括全球顶级的集成电路制造商如中芯国际、台积电、长江存储、华润微电子和华虹宏力，这证明了公司的产品质量和技术实力。 持续的研发投入是安集科技成功的关键，研发费用占营业收入的21.5%以上，确保了产品能够与先进的集成电路制造和封装技术保持同步。公司的核心技术团队由来自 CMP 行业巨头 CabotMicroelectronics 的经验丰富的专家组成，他们在半导体材料领域具有深厚积累和先进技术，这使得公司在技术创新上具备竞争优势。 随着国内半导体产业的蓬勃发展，市场需求强劲。根据数据，2018年中国集成电路产业销售额达6532亿元，虽然国产化率相对较低，但前景广阔。电子化学品，包括CMP抛光液，将迎来巨大的市场机遇。据统计，2018年全球 CMP 抛光材料市场规模为20.1亿美元，预计到2020年将增长至21.35亿美元，显示出市场的增长潜力。 为了进一步巩固和扩大市场份额，安集科技计划通过此次科创板上市募集资金，投资于 CMP 抛光液生产线扩建、集成电路材料基地建设以及研发中心的建设项目，这将有力推动公司产能提升和技术研发，以满足日益增长的市场需求。 安集科技在半导体产业中的发展前景看好，随着国内半导体产业的加速发展和自身研发投入的加大，公司有望在 CMP 抛光液领域保持领先地位，成为中国半导体产业链的重要支持者。投资者应密切关注该公司，把握市场机遇。