全球面变焦距光刻系统设计：低成本高分辨率解决方案

"全球面变焦距光刻系统设计" 本文详细介绍了设计一种创新的光刻系统，该系统采用全球面透镜并具备变焦距功能。系统在四个不同的机械变焦位置工作，通过两片负透镜作为变倍组和两片正透镜作为移动补偿组来调整焦距，并补偿因变焦过程中的共轭距离变化导致的像面移动。光学系统总长度为653.67毫米，由22片球面设计的透镜元件组成，且未使用特种光学玻璃，降低了制作成本。 该光刻系统设计工作在405纳米的光刻常用波长下，针对500线条对每毫米的调制传递函数（MTF）值，在所有变焦位置和视场内均超过0.40，确保了高分辨率成像。同时，系统产生的绝对畸变控制在特征尺寸的六分之一以内，这意味着在微米级别的分辨率下，图像失真极小。 设计结果显示，该光刻系统的成像质量优异，成本效益高，特别适用于需要在变焦距条件下实现微米精度刻蚀的双远心光刻应用。该研究为光学设计、变焦距光学系统、光刻物镜以及球面设计提供了新的思路和实践案例，对于提升光刻技术在微电子制造领域的应用有着重要的意义。