布局验证基础:Calibre设计规则检查与 parasitic 提取
"这篇资料主要介绍了Calibre在布局验证中的基本应用,包括设计规则检查、布局与电路图对比以及寄生参数提取等关键步骤,并强调了布局验证的必要性。" Calibre是 Mentor Graphics 公司推出的一款业界广泛使用的集成电路(IC)布局验证工具,它在半导体设计流程中扮演着至关重要的角色。布局验证是确保芯片物理设计满足制造工艺规则、保证可靠性和性能的关键步骤。 4-1 和 4-2 提到的CIC可能是指课程或者会议的代码,它们在介绍Calibre在布局验证中的应用。4-3至4-5进一步阐述了布局验证的必要性: - 设计者通常只进行功能设计验证,但物理设计必须符合制造工艺规则,以确保可制造性和可靠性。 - 即使是商业化的布线工具也可能引入错误,因此需要布局验证来检查。 - 将布局数据库转换为代工厂接受的格式可能会引入新的错误。 - 布局完成后,设计的性能也需要经过验证。 4-6 描述了布局验证的基本概念: - 布局验证是基于工艺流程的,需要一个数据库来存储工艺信息。 - 验证输入包括GDSII格式的布局数据库(有时也包含CIF或Cadence格式)、用于LVS(Layout versus Schematic)的网表信息以及工艺指定的信息。 - 布局验证可以是增量式的,针对设计更改的部分进行检查,也可以是全芯片验证,覆盖整个设计。同时,验证可以采用层次化或扁平化的方式进行。 Calibre提供了以下核心功能: 1. **设计规则检查(DRC)**:DRC用于检查设计是否违反了特定工艺节点下的制造规则,如最小线宽、间距、接触区域等,确保设计能够在制造过程中成功实现。 2. **布局与电路图对比(LVS)**:LVS比较布局数据和电路原理图,验证两者的一致性,确保物理实现与逻辑设计匹配。 3. **寄生参数提取(Pex)**:XCalibre是Calibre的一个扩展,用于提取布局中的寄生电阻、电容和电感等参数,这些参数对电路模拟和性能预测至关重要。 4. **层次化处理**:对于大型设计,Calibre支持分层次的验证方法,能够提高验证效率并简化问题定位。 5. **增量验证**:仅对设计更改的部分进行验证,提高验证速度,适合频繁迭代的设计过程。 Calibre作为一款强大的布局验证工具,是保证IC设计质量和制造可行性的关键工具,通过DRC、LVS和Pex等步骤,确保设计在物理层面的完整性和性能。
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