二维光栅光调制器表面弯曲度对成像对比度的影响及优化策略

本文主要探讨了二维光栅光调制器阵列的表面弯曲度对其衍射光学特性的重要影响。研究者首先通过实测获取了光栅表面的结构数据，这些数据是构建阵列模型的基础。使用MATLAB软件，他们对不同弯曲度情况下频谱面上的衍射光强分布进行了数值模拟，进而揭示了表面弯曲度与成像对比度之间的关系。 实验结果显示，在暗态下，光栅表面的弯曲度对成像对比度有着显著影响。特别是当光栅面的中心弯曲度控制在0.1λ（即波长的十分之一）以下时，能够显著提高成像的对比度，理论上甚至可以达到1000以上。这表明，通过精确控制表面平整度，可以显著提升光栅光调制器的性能，对于光电器件在高精度成像、信号处理等应用中的表现至关重要。 此外，文章还通过实际实验动态展示了光栅光调制器在明暗态下的调制效果，进一步验证了理论分析的结果，并据此提出了减少光栅面弯曲度的优化方案。这项研究对于微光机电系统的设计和制造具有重要的指导意义，尤其是在光栅光调制器的设计中，对于确保设备的稳定性和性能优化具有实用价值。 总结来说，这篇论文深入研究了表面弯曲度对二维光栅光调制器性能的影响，提供了关键的控制参数和优化策略，对于微光机电系统的衍射光学性能提升和精密光学器件设计具有重要参考价值。