新方法：多标准样本校准光谱椭圆偏振仪提高精度

本文主要探讨了一种新颖的光谱椭圆偏振仪校准方法，用于提高测量薄膜厚度和材料光学性质时的精度。光谱椭偏仪作为关键的光学测量工具，其准确度在很大程度上依赖于校准过程。传统的校准方法可能复杂且耗时，而本文提出的校准策略通过利用多个已知厚度和特性标准样品，显著简化了这一过程。 新方法的核心在于，通过测量这些标准样品，获取它们的傅里叶系数光谱。然后，这些实际光谱被与理论光谱进行比较，其中理论光谱包含了待校准的参数，如偏振器方位角、波片延迟、波片方位角以及系统入射角等。通过最小二乘法的优化算法，能够有效地拟合这些参数，找到使测量数据与理论预测最接近的最佳校准值。 这项研究的创新之处在于将校准范围扩展到了宽广的200~1000纳米光谱区域，这使得这种方法具有更广泛的适用性。作者通过实际测量SiO2/Si薄膜样品，特别是在3~13纳米这个关键区间，验证了新方法的有效性和高精度，达到了0.194纳米的校准精度，明显优于传统的校准方法。 本文的工作不仅提供了一个实用的校准策略，而且提升了光谱椭偏振仪的测量性能，对于薄膜科学和光电子技术等领域具有重要的应用价值。通过最小二乘法的运用，减少了校准时间，降低了误差，使得科研人员能够在更短的时间内获得更准确的数据，从而推动相关领域的研究进展。此外，这种方法的通用性和灵活性也为其他类似光学设备的校准提供了参考。