扫描白光干涉法在GaAs台阶结构形貌重构中的应用验证

"基于白光透射反射干涉的形貌重构方法验证 (2010年)" 是一篇工程技术领域的论文，研究了利用扫描白光干涉技术来实现对覆盖透明薄膜的GaAs台阶结构三维形貌的非接触式、无损测量。 在论文中，作者们提出了一种创新的形貌重构方法，它依赖于白光透射反射干涉的原理。这种方法的核心是通过扫描白光干涉仪，利用其测量臂和参考臂之间的光程差变化。当Pizeo元件驱动系统改变这两臂之间的距离时，不同高度的表面能够达到零光程差状态。这一过程伴随着干涉条纹的变化，这些变化由CCD相机记录下来。通过对这些条纹变化的分析，可以精确地提取出被测对象的三维形貌信息。 这项技术的优势在于它的非接触特性，避免了对样品的物理损害，同时具有高灵敏度，能够检测微小的形貌变化，而且测量速度快，适合于实时或快速检测。此外，由于使用白光光源，该方法在宽光谱范围内工作，增强了对各种材料的适应性。 论文中的实验部分详细描述了对覆盖不同层数透明薄膜的GaAs台阶结构进行透射测试的过程。GaAs是一种重要的半导体材料，在微电子和光电子领域有广泛应用。通过透射测试，研究人员验证了他们提出的形貌重构方法的有效性，这对于理解薄膜沉积过程后的表面形貌，以及优化微纳米加工工艺具有重要意义。 论文的关键点包括扫描白光干涉技术的使用，GaAs台阶结构的选择作为测试样本，透射反射干涉的原理，以及零光程差条件下的形貌信息提取。这些关键词表明，这篇论文不仅涉及基础光学原理，还涵盖了实际的材料科学和测量技术应用。 这篇论文为膜后形貌的三维重构提供了一种新的方法，对于微纳制造和半导体器件表征领域具有重要的参考价值。通过这种技术，科研人员和工程师能够更准确地了解和控制薄膜层的表面形貌，从而提升器件性能和制造精度。