基于AFM的CD扫描图像3D拼接技术
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更新于2024-08-26
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本文探讨了"CD-AFM扫描图像的三维匹配"这一研究主题,主要关注于原子力显微镜(CD-AFM)在微电子机械系统(MEMS)中的关键尺寸测量应用。作者胡小唐、李凯凯、徐临燕等人在精密测试技术及仪器国家重点实验室(天津大学)开展的研究中,提出了针对CD-AFM的一项创新性技术——三维图像拼接方法。
CD-AFM以其高分辨率和精确的侧壁形貌和线宽测量能力,被广泛应用于微电子制造领域。传统的AFM扫描仅能得到表面图像,而这项工作旨在将结构的正表面图像与侧壁图像结合,形成一个完整的三维视图。研究人员通过旋转样品并使用AFM对结构进行多次扫描,获取正表面和侧壁的独立图像。然后,通过图像预处理和快速图像相关匹配技术,准确找到图像之间的匹配点,确保拼接的准确性。
侧壁扫描图像经过一系列操作,如逐列翻转、切割、旋转和拼接,最终实现无缝拼接。这涉及到复杂的图像处理算法,本文采用了C++语言来编写,实现了高精度的图像融合,拼接边缘的曲线相似度达到了惊人的97.62%,显示出该方法的极高精度。
关键词:关键尺寸、原子力显微镜、侧壁形貌、三维图像拼接,体现了本研究的核心技术点。文章引用了多个资助项目,包括国家高技术研究发展计划(863计划)、国家自然科学基金以及天津市自然科学基金,显示了这项研究得到了多方面的支持和认可。
中图分类号TH73(微电子学与固体电子学)、TP3-05(计算机技术、计算机科学)、TP751(光电子技术)表明了该研究的学术定位和覆盖范围。文章编号1672-6030(2015)03-0219-07标识了其在《纳米技术与精密工程》杂志上的具体位置,收稿日期为2015年3月1日,展现了研究的最新进展和发表时间。
总结来说,这篇研究论文提供了一种有效的方法,通过CD-AFM的3D图像拼接技术,提升了微电子结构形貌分析的全面性和精确度,对于微电子制造和精密工程领域的技术进步具有重要意义。
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2021-08-29 上传
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