相位调制控制下的激光阵列远场光强分布及其应用

本文主要探讨了基于相位调制的激光多元相干阵列在远场光强分布方面的理论与应用研究。文章以Fraunhofer衍射理论为基础，构建了一个二维M×N激光相干阵列的远场光强分布模型，其中M和N代表阵列的维度，如文中提到的5×5激光阵列为例。研究者通过数值模拟方法，深入分析了不同调制相位对远场光强分布的影响。 核心发现指出，随着调制相位的变化，远场光强分布的主极大和主极小的位置会发生移动，同时其相对强度也会随之调整。这种可控性使得相位调制成为了一种有效的手段来调控远场光束的特性。特别地，当每列（或行）相邻两个阵元的相位差设定为π时，会出现明显的主极大和次极大对称分布，这在实际应用中可能有助于实现精确的光束控制或者光束合成。 这篇论文不仅提供了理论上的指导，也为相位调制在激光技术、相干光学以及相干阵列领域的实际应用提供了一个有价值的参考。它强调了利用相位调制技术来优化远场光强分布的重要性，这对于光通信、激光雷达、光束合成等技术的发展具有重要意义。通过这个研究，科学家和工程师可以更好地理解并利用这种现象，以满足特定的光学系统设计需求。这项工作对于推进相干光学技术的创新和应用具有积极的推动作用。