使用MAX+PLUSII进行CPLD开发：从设计输入到适配

"MAX+PLUSII开发环境用于CPLD设计，提供全面集成的开发流程，包括设计输入、综合、布局布线、仿真、定时分析和器件编程等步骤。该环境支持Altera的所有产品，允许用户在不同的平台和软件之间协同工作。设计可以采用多种格式，如EDIF、VHDL、OrCAD原理图和Xilinx文件。MAX+PLUSII提供直观的用户界面，包括工具栏、状态提示条和帮助菜单。设计流程包括创建新工程、选择器件、输入设计、编译、综合、适配、验证和编程。设计输入方式多样，如原理图设计、文本设计（如VHDL和AHDL）以及第三方EDA工具产生的文件。在MAX+PLUSII中，每个设计被视为一个工程，需要指定工程名和路径，并确保文件命名的一致性。用户可以通过新建目录来组织工作空间，并使用原理图编辑器添加和编辑逻辑器件，最后将设计文件入库并设为工程文件。" 在MAX+PLUSII开发环境中，用户在编译和综合前需要先选择合适的适配元件。这里提到的消去QUARTUS设置，可能是指避免使用特定于QUARTUS的配置，以便在MAX+PLUSII中进行独立的工作。选择适配器件是一个关键步骤，比如选择了EPF10K10LC84这款器件，它属于EPF10K系列，这需要在设计流程中明确指定以确保设计符合目标器件的特性。 设计输入阶段，MAX+PLUSII支持各种格式的设计文件，包括但不限于顶层设计的EDIF、VHDL和Xilinx网表文件。用户还可以通过图形编辑器导入OrCAD编辑的原理图，并将其保存为.gdf文件。此外，MAX+PLUSII允许用户创建和管理子设计，这些子设计可以是EDIF、VHDL文件，或者是来自OrCAD原理图和Xilinx文件的下层模块。 在操作环境中，用户界面包含工具栏，方便快速访问常用功能，而状态提示条会显示当前所选菜单或按钮的信息。"MAX+PLUSII"菜单提供所有功能的访问入口，而"Help"菜单则提供详细的在线帮助。工程路径和工程名称需要指定，通常工程名应与设计文件名保持一致，且建议在新建目录（如WORK库）中组织工程文件。 设计流程包括以下几个主要步骤：首先，输入设计，可以使用MAX+PLUSII的原理图设计或文本设计功能，也可以导入第三方工具生成的EDIF文件。接着，编译设计文件，这一过程包括综合、适配和优化，以生成满足时序要求的逻辑实现。然后，进行定时验证和时序仿真，确保设计满足性能目标。最后，将设计烧录到选定的器件中，完成硬件编程，并对应用系统进行硬件测试。如果需要，可以随时返回并修改设计，再次重复上述流程。