2.18nm d-spacing WSi2/Si多层膜：高性能X射线单色器的选择

本文主要探讨了一种用于X射线单色器的小间距WSi2/Si多层膜的设计与性能。这种多层膜由300个双边层组成，其晶格间距（d-spacing）仅为2.18纳米，这使得它在高能X射线区域具有潜在的应用价值。研究采用了直流磁控溅射沉积技术进行制备。 实验结果显示，当工作能量为8.05千电子伏特时，第一阶布拉格峰的反射率高达38%，显示出良好的X射线反射性能。这种高性能对于单色器来说至关重要，因为它能够有效地分离出特定能量的X射线，提高测量精度。此外，该多层膜的角分辨率（Δθ/θ）小于1.0%，表明其衍射性能非常优异，有助于减少角度误差，从而提升整体系统性能。 然而，通过反射率曲线的拟合分析，研究人员发现层厚漂移是影响性能的一个重要因素，层厚偏差达到了1.6%。这种层厚不均匀性可能导致布拉格峰的宽度增大，从而影响单色器的稳定性。为了优化设计，未来的研究可能需要对沉积过程进行更精确的控制，以减小层厚的偏差。 总体而言，这篇论文提供了一种小型间距WSi2/Si多层膜作为X射线单色器的有效候选材料，展示了其在实际应用中的潜在优势和挑战。对于追求高精度X射线科学和技术的领域，如材料科学、化学成像或物理学研究，这种小型间距结构的多层膜技术具有重要的研究价值和实践意义。