激光直写系统曝光量分布对比及其影响研究

本文主要探讨了激光直接写入系统（LDW）中的曝光量分布分析，特别关注了直角坐标和极坐标两种不同类型的激光写入系统的曝光特性。在激光直接写入过程中，曝光量分布与光强分布之间存在显著的差异，这些差异对显影后抗蚀剂中线条的形态有着直接影响，可能导致线形精度的问题。 首先，作者提出了针对直角坐标激光直接写入系统的曝光量分布计算公式，这是一种基于特定几何结构和激光光束特性的数学模型。这个公式考虑了激光在空间中的传播路径、能量衰减以及抗蚀剂吸收光能的过程，从而定量地描述了曝光剂量在不同位置的分布情况。 对于极坐标系统，同样进行了类似的计算处理，以适应其非均匀的辐射特性。作者通过对比这两种不同的曝光量分布模型，揭示了它们之间的区别，这些区别可能源于激光的聚焦方式、扫描路径以及抗蚀剂对光线的散射和吸收特性。 文章深入讨论了这种曝光量分布与实际线条形态之间的关系，认为曝光量的不均匀性可能会导致显影后的线条边缘模糊或者形状偏差。通过实验验证，作者发现理论分析的结果与实际观测到的线条面形吻合，这证实了所提出的曝光量分布模型的有效性和实用性。 关键词涵盖了物理光学、衍射光学、激光直接写入以及曝光量分布分析的核心概念，强调了这项研究在光学制造和微纳加工领域的技术价值。中图分类号TN305.7表明了该研究属于光学工程领域，而文献标识码A则表示文章达到了学术期刊的较高标准。 本文的研究成果为优化激光直接写入系统的性能，减少线形误差，提高制造精度提供了理论依据，对于激光微纳加工技术的发展具有重要意义。