高精度纳米晶带材生产设备技术规格详解

"高精度纳米晶带材生产设备规格书" 这篇文档详细介绍了高精度纳米晶带材生产设备的技术参数、设备描述、元器件清单、供货范围、工作范围、技术文件、性能保证、设计联络、技术服务、检验与培训、价格与付款等相关内容。 一、主要技术参数 1. 冷却辊尺寸为1000mm x 200mm，可根据客户需求调整。 2. 成品规格为带宽45mm以下，厚度24±2μm，最大卷重200Kg，套筒尺寸为350mm/310mm x 200mm，最大卷材外径1500mm。 3. 生产速度最高可达30m/s。 4. 机列方向是从操作侧看，带材从右向左流动。 5. 单炉产量最大200Kg，单台设备年产能最小400t。 6. 带材成分包括Fe:73.5%，Si:13.5%，B:9%，Nb:3%，Cu:1%，重量百分比分别为Fe:81-82.4%，Si:7.6-7.9%，B:2.8-2.9%，Nb:5.4-5.8%，Cu:1.27-1.29%。 7. 性能指标包括铁损：<30W/kg，矫顽力Hc:＜6A/m，饱和磁感(25℃时):1.25T，填充系数:≥0.8，密度:7.18g/cm³。 二、设备描述 设备用于铁基高精度纳米晶带材的生产，采用一次真空冶炼、二包法平面流浇注、单辊法喷带和在线直接卷取工艺。此工艺方案的特点包括： 1. 一次真空冶炼工艺减少了工序能耗，降低了生产成本。 2. 二包平面流浇注提高了生产稳定性和成材率，通过在真空感应炉后设置加热浇注包来满足温度要求。 3. 在线自动卷取是保证带材质量的关键步骤，采用该方案确保了生产过程的连续性和质量控制。 三、其他内容 文档还涉及了卖方供货范围、买方工作范围、技术文件的内容、性能保证、设计联络、技术服务范围及待遇条件、出厂检验、买方技术人员培训、价格、付款等商业和技术细节。整个生产设备设计考虑了高效、精准和成本效益，旨在满足高精度纳米晶带材的工业化大规模生产需求。