红外成像制导仿真进展:现状、MOS与DMD技术对比
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更新于2024-09-08
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本文《论文研究-红外场景仿真器的发展、现状及分析》由闫杰、张凯和孙嗣良三位作者合作撰写,主要聚焦于红外成像制导武器领域的半实物仿真技术。该研究基于国家自然科学基金和高等学校博士学科点专项科研基金的支持,体现了对红外目标模拟器技术的深入探讨。
论文首先概述了红外场景仿真器在国内外的发展背景,指出其对于武器研发尤其是红外成像制导武器的重要性。当前,随着科技进步,半实物仿真已成为提升武器性能和验证设计的关键手段。文章着重分析了红外目标模拟器的技术现状,包括其应用范围和技术特点,强调了这种技术在武器测试中的实际价值。
作者详细介绍了两种主流的目标模拟器技术,分别是MOS电阻阵和DMD数字微镜。MOS电阻阵是一种模拟红外辐射源的组件,通过调整电阻值来模拟不同温度下的红外辐射强度,常用于红外目标的精确模拟。而DMD数字微镜则利用数千个小镜子单元的开闭状态来形成复杂的红外场景,能提供高度可编程的实时模拟效果。
针对半实物仿真试验的需求,文中进一步探讨了这两种模拟器的潜在应用前景和发展趋势。MOS电阻阵因其稳定性与精确度受到青睐,但可能面临技术更新迭代的压力。DMD数字微镜则以其灵活的动态场景生成能力显示出巨大的发展潜力,然而,成本和复杂性可能是其推广的关键挑战。
本文不仅提供了关于红外场景仿真器技术的最新进展,还对未来的研究方向和市场需求进行了预测,对于从事红外成像制导技术、半实物仿真以及相关设备研发的专业人员具有重要的参考价值。同时,本文的案例研究也为相关领域的发展提供了实证依据,有助于推动红外目标模拟器技术的进一步优化和创新。
2019-07-22 上传
2023-05-10 上传
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