优化Co/Ni多层膜的垂直磁各向异性：反常霍尔效应研究

本文主要探讨了"Co/Ni多层膜垂直磁各向异性的研究"，由俱海浪、李宝河、吴志芳、张璠、刘帅和于广华等人在2015年发表在《物理学家通报》(Acta Physica Sinica)上。他们采用了直流磁控溅射技术在玻璃基片上制备了一种具有Pt底层的Co/Ni多层膜结构，目的是深入研究这种材料的磁性质，特别是垂直磁各向异性。 垂直磁各向异性是指磁矩在不同方向上的磁化强度差异，这对于磁存储设备如硬盘驱动器等中的信息存储至关重要，因为它决定了数据的稳定性和可靠性。研究团队通过测量样品的反常霍尔效应来研究这种特性，因为反常霍尔效应可以揭示磁层内部的磁矩排列和磁各向异性。他们发现，多层膜中每层的厚度以及周期数对于反常霍尔效应和磁性能有着显著的影响，这些参数的优化直接影响了垂直磁各向异性的表现。 通过实验，他们找到了一个最佳样品设计：Pt(2.0)/Co(0.2)/Ni(0.4)/Co(0.2)/Pt(2.0)，这个特定的结构使得样品的各向异性常数Keff达到了3.6 × 10^5 J/m^3，这是一个较高的数值，表明该Co/Ni多层膜具有优良的垂直磁各向异性。这样的特性对于提升磁存储器件的性能，如提高数据读写速度和存储密度具有重要意义。 此外，文章还引用了其他相关领域的研究，如基于时域有限差分法的各向异性铁氧体圆柱电磁散射分析，以及关于掺杂AlN薄膜、Ge纳米结构和CoFe/Pd双层膜中垂直磁各向异性的研究，这显示了作者对磁性材料及其应用的广泛兴趣和研究背景。 这篇论文不仅提供了Co/Ni多层膜垂直磁各向异性的实验结果，而且还为磁性材料的设计和优化提供了一定的理论指导，对磁性材料科学和技术的发展有着实际价值。读者如果对磁性材料、纳米技术或者磁存储设备感兴趣，可以从这篇文章和其他引用的文献中获取更多信息。