基于二次规划的光刻机光源优化方法研究

"基于二次规划的光刻机光源优化方法" 本文提出了一种基于二次规划的光刻机光源优化方法，该方法通过将空间像强度与不同位置的点光源之间的线性关系转换成二次规划问题，以提高光刻成像质量和增大工艺窗口。该方法将掩模图形区域分成限制区域和比较区域，对限制区域应用约束条件，对比较区域采用目标函数优化。通过对一维孤立空图形和二维接触孔阵列图形的验证，分析了光刻胶阈值和离焦量对优化结果的影响。结果表明，提出的光源优化方法获得了光源的全局最优解，提高了光刻成像质量，增大了工艺窗口。 知识点： 1. 光刻机光源优化方法：该方法通过将空间像强度与不同位置的点光源之间的线性关系转换成二次规划问题，以提高光刻成像质量和增大工艺窗口。 2. 二次规划问题：该方法将光源优化转换成二次规划问题，以便更好地解决光源优化问题。 3. 掩模图形区域分割：该方法将掩模图形区域分成限制区域和比较区域，对限制区域应用约束条件，对比较区域采用目标函数优化。 4. 光刻胶阈值和离焦量对优化结果的影响：通过对一维孤立空图形和二维接触孔阵列图形的验证，分析了光刻胶阈值和离焦量对优化结果的影响。 5. 光刻成像质量和工艺窗口：该方法提高了光刻成像质量，增大了工艺窗口。 6. 全局最优解：该方法获得了光源的全局最优解，以提高光刻成像质量和增大工艺窗口。 7. 光学设计：该方法应用于光学设计领域，旨在提高光刻成像质量和增大工艺窗口。 8. 分辨率增强：该方法可以增强光刻成像的分辨率，提高光刻成像质量。 9. 光源掩模优化：该方法可以优化光源掩模，提高光刻成像质量和增大工艺窗口。 10. 二次规划算法：该方法使用二次规划算法，以便解决光源优化问题。 11. 目标函数优化：该方法使用目标函数优化，以便更好地解决光源优化问题。 12. 约束条件：该方法应用约束条件，以便更好地解决光源优化问题。 13. 光学设计软件：该方法可以应用于光学设计软件，以便提高光刻成像质量和增大工艺窗口。 14. 光刻机技术：该方法应用于光刻机技术领域，旨在提高光刻成像质量和增大工艺窗口。 15. 光学设计原理：该方法基于光学设计原理，以便更好地解决光源优化问题。