真空紫外滤光片与光电测距仪的最新进展

"最近的光电测距仪 (1981年)" 本文主要讨论了1981年光电测距仪的最新发展和技术趋势。光电测距仪是一种利用光的传播时间来测量距离的设备，尤其在工程技术和科学研究中有着广泛的应用。文章提到了几个关键点： 1. 多层膜二向色性反射滤光片：这种技术是通过多层介质设计实现的，旨在特定的真空紫外波长范围内提供高反射率，同时在可见光谱范围内保持低反射率。这有助于增强仪器对所需波长的敏感度，同时减少不必要的光线干扰。滤光片的反射率在真空紫外区可以达到90%至98%，而在可见光区则低于1%。通过组合多个滤光片，可以进一步减少可见光的反射，这对于需要精确控制光谱响应的光学系统至关重要。 2. 未来研究方向：作者指出，未来的真空紫外膜层研究将重点关注波长在1200纳米以下的反射金属介质滤光片，以及在1200纳米至2000纳米区间具有高透射率和大带外衰减的滤光片。这表明了在这一光谱领域的技术进步对于推动新型仪器和激光器的发展至关重要。 3. 光电测距仪的改进：文章提及了光电测距仪的小型化、多样化和全功能化趋势。随着技术的发展，测距仪变得更加小巧，可以与经纬仪集成，提高了测量效率和作业灵活性。例如，AGA公司的NASM-12和14型、K&E公司的产品、日本光学公司的产品以及东京光学的DM-CL等都是这一趋势的代表。这种小型化不仅减轻了仪器的重量，还降低了对作业环境的要求，但仍需要解决在经纬仪上安装重物可能影响测角精度的问题。 1981年的光电测距仪领域正经历着显著的技术进步，特别是在滤光片技术和设备小型化方面。这些发展对提高测量精度、提升工作效率和适应不同作业环境有着重要影响。未来的研究将继续探索更高效、更精确的光学膜层和更轻便的测距解决方案。