新型共轴共焦干涉SPM：精密纳米检测与图像调控技术

共轴共聚焦干涉式表面等离子体显微成像技术是一种先进的纳米尺度检测方法，由北京航空航天大学的研究团队提出并发表于《北京航空航天大学学报》。这项技术结合了共轴共聚焦干涉原理和表面等离子体（Surface Plasmon Polaritons, SPPs）效应，能够在微纳级别精确地测量材料折射率的微小变化和表面形态，这对于生物医学研究和半导体材料的质量控制等领域具有重要意义。 新技术的核心在于利用压电陶瓷微纳米移动平台，通过将样品置于显微物镜的焦点附近，当SPs信号与参考光发生干涉时，会形成一个随样品离焦距离变化的周期性振荡信号，即所谓的V(z)曲线。这种干涉模式使得成像过程不仅能够定量分析折射率变化，还具备易于实现、成本效益高、对环境条件适应性强和高信噪比的特点，提高了测量精度和稳定性。 此外，共轴共聚焦干涉式SPPs成像技术的一大亮点是其对比度控制能力。通过调节样品的离焦距离，成像系统的对比度可以灵活调整，而不会明显牺牲图像分辨率，这对于获取多层面的信息至关重要。这种特性对于动态观察或实时分析表面结构的变化尤其有利。 研究者们通过理论仿真和实验验证了这一技术的可行性和有效性。他们利用了中图分类号TN29（光学技术）和TH742（电子学与电子信息技术）的分类标准，以及文献标识码A（表明文章质量达到学术期刊的标准），并通过文章编号明确了研究的具体位置。 共轴共聚焦干涉式表面等离子体显微成像技术是一项创新的纳米级成像技术，它融合了精密干涉技术和SPPs的特性，为科学研究和工业应用提供了强大的工具，有望在未来推动相关领域的发展。