5nm pico磁头的5nm飞高动态与静态特性深入研究

本文主要探讨了5纳米飞高(pico slider)在超光滑磁盘表面运行时的静态特性和动态行为，由蔡子良、王玉娟和陈云飞三位作者在东南大学机械工程学院进行研究。他们构建了一个二自由度模型来深入分析磁头、气垫和磁盘系统之间的动态特性。作者们对磁头-气垫-磁盘界面的空气轴承在不同工作条件下的模拟进行了细致的比较，包括压力、刚度和阻尼系数等静态与动态参数。 文章首先强调了在低飞高(5nm)条件下，滑块与磁盘之间相对速度、飞行高度、偏航角和滚转角对系统性能的影响。研究发现，适当增加滑块与磁盘的相对速度以及降低飞高有助于提高空气轴承的承载能力和滑块的稳定性。然而，相对速度过大会增加磨损风险，而飞高过低可能导致摩擦加剧，因此需在两者间找到最佳平衡。 通过对磁头在不同条件下动态响应的仿真，研究人员揭示了飞高对气垫性能的显著影响，特别是在保持滑块高速稳定运行方面。同时，他们还讨论了如何通过优化这些参数设计出能在极端环境中高效工作的pico磁头，这对于现代存储设备如硬盘驱动器的高性能和可靠性至关重要。 此外，本研究还可能为未来的微纳尺度磁记录技术提供理论基础，推动磁头设计的微缩化和性能提升。值得注意的是，这项研究是首发于《www.paper.edu.cn》的论文，表明其研究成果具有创新性和学术价值。 总结来说，本文深入剖析了5纳米pico磁头在飞高5nm时的动态和静态特性，不仅提供了关键的设计参数参考，也对未来微小尺寸磁头技术的发展方向提出了新的思考。