PVr：光学表面规格的新稳健参数

"这篇文章主要介绍了PVr，一种用于光学表面规格的新型稳健振幅参数，由Christopher J. Evans提出。PVr参数结合了36阶Zernike拟合的PV值与残差的均方根，旨在提供比传统PV值更全面、更稳定的表面误差评估。这种新的参数对测量系统的分辨率不敏感，且与成像性能直接相关，通过Marechal判据可关联到光学系统的性能。作者建议在光学设计和制造中采用PVr代替传统的PV值进行光学表面质量的评估。" 在光学检测和设计领域，面形误差的评估是至关重要的。传统的指标，如峰谷差（PV），虽然被广泛使用，但在高分辨率的现代干涉仪中，仅用两个点（峰值和谷值）来代表整个测量结果可能会导致信息的不充分。PVr的引入解决了这个问题，它是对光学表面误差的一种更为稳健的量化方式。 PVr的计算方法包括两个部分：首先，利用36阶Zernike多项式对表面进行拟合，得到拟合后的PV值；然后，计算残差的均方根。这两部分结合起来，可以更全面地反映出表面的起伏情况，同时，由于其内在的滤波特性，PVr对测量系统的分辨率变化不敏感，这意味着它能够提供更稳定的结果。 Marechal判据是一个用于评估光学系统成像性能的标准，通过PVr与Marechal判据的关联，可以直接分析出面形误差对面形质量的影响，从而更好地预测光学系统的成像质量。因此，PVr不仅是一个技术参数，更是实际应用中评估光学元件性能的重要工具。 文章中提到，建议将PVr作为标准的评价指标，以替代传统的PV值。这将有助于提高光学设计和制造的精度，确保光学系统的性能达到预期。对于光学工程师而言，理解并掌握PVr的计算和应用，能提升他们在复杂光学系统设计中的决策能力，保证产品的质量和稳定性。 PVr参数是光学检测领域的一个重要进步，它提供了一种更准确、更稳健的方式来评估光学表面的误差，有助于优化光学设计，提高光学系统的整体性能。在实际工作中，理解和应用PVr参数对于提升光学行业的技术水平具有积极意义。