LD侧面泵浦激光介质光场分布研究及优化参数

"LD阵列侧面泵浦棒状激光介质内的光场研究 (2009年)" 这篇2009年的论文主要探讨了激光二极管阵列（LD array）侧面泵浦棒状激光介质中的光场分布。作者通过建立数值模型来分析这种泵浦方式下的光场特性。在激光技术领域，侧面泵浦是一种常见的增益介质激励方式，它能有效提高激光器的效率和输出质量。 论文中提到，利用光线追迹方法简化了计算泵浦光在介质中折射的过程。光线追迹是光学仿真中的常用工具，它能够模拟光线在不同介质间的传播路径，帮助理解光场分布。作者使用Matlab软件进行数值模拟，以更直观地展示泵浦光在棒状介质内的归一化分布情况。归一化分布可以消除单位差异，使结果更具可比性。 论文进一步提出了选择高质量、高能量激光输出参数的原则。例如，当激光二极管（LD）的束腰半径为1微米，LD的数量为40个，激光介质的半径为1.5毫米，发光面到介质的泵浦距离为0.5毫米，并且介质吸收系数在2 cm^-1到6 cm^-1之间时，可以实现较好的泵浦光增益分布。这些参数的选择直接影响到激光器的性能，包括增益、效率和稳定性。 论文的关键点在于优化激光器设计，通过调整这些参数，可以更好地控制泵浦光在介质内的分布，从而提高激光输出的质量和能量。在实际应用中，这有助于制造出适用于各种工业、科研或医疗领域的高效激光设备。 中图分类号：TN243 文献标志码：A 表明这篇论文属于工程技术类别，特别关注于激光技术。其学术价值在于提供了关于激光二极管阵列侧面泵浦的深入理解和优化策略，对于激光工程与物理科学研究具有指导意义。