Silvaco TCAD实战：ATHENA二维工艺仿真深度解析

"这篇文档是关于使用Silvaco TCAD中的二维工艺仿真工具ATHENA的教程，涵盖了ATHENA的基本概念、功能以及参数设置。ATHENA是半导体工艺仿真领域的强大工具，能够模拟各种单项和集成工艺，如离子注入、扩散、淀积、刻蚀、外延、光刻和氧化等。在介绍中，提到了DeckBuild命令行工具的使用，以及在执行过程中如何查看许可的仿真组件。此外，文档还强调了ATHENA输入输出框架，以及如何通过设定工艺步骤和条件来获取结构仿真结果。ATHENA依赖于一系列默认参数文件，包括athenamod、implant_tabl、pls和models目录下的文件，这些文件存储了物理模型、扩散、氧化、沉积和刻蚀等相关参数。尽管这些参数文件提供了便利，但修改它们可能会导致软件问题。文档的目标是为初学者提供关于Silvaco TCAD的二维工艺仿真器ATHENA和器件仿真器ATLAS的详细指南，并介绍了交互式工具DeckBuild和可视化工具Tonyplot的使用。" 在半导体工艺仿真领域，Sivaco TCAD的ATHENA是一个重要的工具，它具备广泛的工艺仿真能力，能处理从离子注入到光刻等一系列复杂的工艺步骤。用户可以通过DeckBuild灵活调用不同的仿真组件，且在操作过程中，组件的切换几乎透明，使得工艺流程的模拟更加方便。ATHENA的输入输出系统允许用户通过定义工艺条件和版图信息，仿真出相应的结构，并且内置计算器可以计算结构的电学特性。 默认参数对于ATHENA的正确运行至关重要，这些参数存储在特定的文件中，如athenamod包含物理模型和工艺参数，implant_tabl下的文件用于离子注入，而pls和models目录的文件则涉及高级扩散模型。尽管这些参数文件可以自定义，但为了保持软件的稳定性，建议避免不必要的修改。 此外，文档还提到，ATHENA的使用对于缩短半导体产品的开发周期和降低成本具有重要意义。在当今竞争激烈的电子行业中，计算机仿真技术，特别是TCAD软件，如Silvaco TCAD，已经成为研究、开发、测试和生产半导体器件及集成电路不可或缺的工具。本书旨在为初学者提供ATHENA和ATLAS的实用教程，涵盖从基础操作到高级应用的各个方面，同时也提及了交互式环境DeckBuild和可视化工具Tonyplot的使用，为学习者提供了一个全面的入门指南。