光刻机DOE远场多参数检测技术及应用

"光刻机光瞳整形衍射光学元件远场多参数检测方法" 本文主要探讨了一种针对光刻机光瞳整形所使用的衍射光学元件（DOE）的远场多参数检测技术。在现代半导体制造工艺中，光刻机的光瞳整形是至关重要的步骤，它通常依赖于DOE来生成各种照明模式，以实现高精度的图案转移。DOE的性能直接影响到光刻机的分辨率和成像质量，因此对其光学特性进行全面、精确的检测显得尤为必要。 文中提出的检测方法通过分析远场光强分布，能够同时获取DOE的多种光学特性参数。这些参数包括极平衡性、极张角、极方位角、半孔径角以及径向光强分布等。极平衡性反映了光强分布的对称性，对于确保光刻均匀性至关重要；极张角和极方位角则涉及DOE的照明模式形状和方向；半孔径角关系到光线入射DOE的角度范围，对成像质量有直接影响；而径向光强分布则揭示了光强随距离的变化规律，有助于评估DOE的光束扩散和能量分布。 在实验部分，研究者使用此方法对一个由国外加工的四极照明模式DOE进行了检测和分析。结果显示，该方法能够有效、准确地获取所需参数，满足了光刻机光瞳整形DOE的检测需求。这表明该检测技术具有实际应用潜力，能够为光刻机的设计和优化提供强有力的数据支持。 该文提出的检测方法不仅创新性地整合了多种参数测量，还简化了传统的检测流程，提高了检测效率。这对于提升光刻机性能，尤其是应对纳米尺度的微细加工挑战，具有重要的理论和实践意义。此外，该方法的普适性意味着它可以广泛应用于其他类型的DOE检测，对于推动光学检测技术的发展也具有积极的作用。