电感耦合等离子发射光谱的光电检测技术研究
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更新于2024-08-11
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"电感耦合等离子发射光谱的光电检测技术在1980年的研究进展,涉及电感耦合等离子体光源(Ion Coupled Plasma, ICP)在痕量元素分析中的应用,以及光电检测在提高分析精度和动态范围上的优势。文章提到了与上海冶金研究所和上海师范学院的合作,利用扫描单色仪和ICP光源的联用进行光谱分析。"
电感耦合等离子发射光谱是一种先进的光谱分析技术,它在1980年代初已在国内的多个分析实验室得到应用。这种光源具有高度的分析重现性,三小时内连续分析的变异系数(CV值)小于±2%,并且具备104至105的线性动态范围,以及极高的检出灵敏度,能够检测到ppb级别的金属元素。由于ICP光源不受样品基体和化学结构的影响,适用于各种痕量元素分析,包括工业流体、废水、环境样本、生物样本、有机样品(如机床油料、石油产品)以及食品和植物中的金属元素。
传统的摄谱分析方法受限于光谱板的感光线性和测量误差,而电感耦合等离子发射光谱配合光电检测技术则可以克服这些局限,提高测量精度,扩大分析含量的动态范围,并且有利于实现自动化和数字化分析。在当时的实验中,上海光学仪器研究所与合作单位一起,采用扫描单色仪与ICP光源结合,配以纸带记录仪进行实验,主要关注光电测量系统的信噪比、检出限、再现性和工作曲线的线性范围。
实验结果显示,对于铜的检出限达到了5ppb,再现性(CV值)约为3.5%。虽然背景波动相对于低压汞灯略有增加,但证明了提高ICP光源功率稳定性对于发展等离子扫描光度计的潜力,使其可能与原子吸收分光光度计相媲美。
实验装置主要包括等离子火焰、聚光镜、扫描单色仪和入射狭缝。等离子火焰通过聚光镜将图像以1:1的比例投射到扫描单色仪的入射狭缝上,狭缝前的十字刻线指标盖用于对准和校准。这种设置允许对光源的输出进行精确控制和检测,从而优化分析性能。
这篇论文探讨了1980年代电感耦合等离子发射光谱在光电检测方面的进展,展示了这种技术在痕量元素分析中的优势,以及它如何通过技术创新提升分析效率和准确性。
2019-09-05 上传
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2020-04-27 上传
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