L-Edit版图设计指南：基础操作与技巧

"L-Edit Usage Summary.docx" 本文档主要介绍了Ledit这款版图设计软件的基本使用方法，适用于初学者。Ledit是一款强大的集成电路布局与布线工具，广泛应用于半导体设计领域。以下是对文档中提到的关键操作的详细解释： 1. **基本图形绘制**：在工具栏上右击选择“allangles&curves”，可以创建各种角度和曲线的图形。 2. **图形属性编辑**：选中图形后，按下Ctrl+E键可以打开图形属性对话框，修改图形的相关属性。 3. **坐标移动图形**：要移动图形，先选中目标图形（Ctrl+A可全选），然后按M键，使用鼠标或键盘输入坐标进行移动。 4. **鼠标移动图形**：同样选中图形后，用鼠标滚轮拖动可直观地移动图形位置。 5. **新建画板**：快捷键N用于创建新的工作区域或画板。 6. **Project重命名**：选中项目后，按下Shift+R键可以快速重命名当前Project。 7. **放大图形**：按Ctrl键同时滚动鼠标滚轮可以实现图形的缩放。 8. **量尺寸**：按T键激活测量工具，再次按Esc键取消测量。 9. **拖动多边形的边**：选中多边形，按Alt键，用鼠标左键拖动需要移动的边，可以调整多边形形状。 10. **切割图形**：全选需要切割的基本图形，点击图形栏的“三角形”和“剪切”按钮，实现图形切割。 11. **选中多个图形**：按住Shift键，用鼠标左键点击目标图形，可以连续选择多个不相邻的图形。 12. **导出GDS文件**：GDS（Graphics Display System）文件是版图设计的标准数据交换格式。在Ledit中导出GDS文件用于掩模制作，例如StepperMask和ContactMask： - **StepperMask导出**：首先确保mask layer pattern符合要求，包括位置、尺寸、镜像等。导入CIF格式的mask format，用i键插入并定位布局，调整layer到正确层，隐藏不需要的layer，最后通过File > ExportMaskData > GDSII导出选中的cell及其层次。 Ledit软件的操作灵活性和高效性使得它在版图设计中非常实用。熟练掌握这些基本操作，能极大地提升版图设计的工作效率。在实际应用中，还需要结合具体的设计规则和工艺要求进行细致的操作。对于新手来说，通过实践和学习，可以逐步精通Ledit的各种高级功能。