Cadence Virtuoso版图设计教程：绘制非门版图

“Cadence Virtuoso是用于集成电路(IC)版图设计的专业软件，本教程主要介绍如何在Cadence环境中进行Virtuoso编辑器的使用，通过一个简单的非门版图设计实例来逐步讲解。” 在Cadence Virtuoso中进行版图设计，首先要理解其工作流程和关键工具。Virtuoso是一个强大的集成电路设计平台，它集成了设计、仿真、版图布局与布线等多种功能。本教程以创建一个简单的反相器版图为例，帮助初学者掌握基本操作。 1. 建立版图文件 创建版图文件的第一步是使用Library Manager。在这个例子中，我们需要建立一个新的库myLib，并选择合适的工艺技术文件（Technology File）。工艺文件定义了设计规则，如最小线宽、间距等，对于新库，可以选择“compile a new techfile”或“attach to an existing techfile”。由于我们是新建，所以选择前者。接着在加载技术文件对话框中指定相应的工艺文件，例如csmc1o0.tf。 2. 创建Cell 在myLib库中创建名为inv的Cell，可以包含电路的符号视图（Symbol View）、原理图视图（Schematic View）和布局视图（Layout View）。首先创建inv的schematic view和symbol view，定义PMOS和NMOS晶体管的尺寸，如PMOS长6u，宽0.6u，NMOS长3u，宽0.6u，并指定模型为hj3p和hj3n。 3. 建立Layout View 要创建布局视图，选择Virtuoso - Layout工具，然后点击OK。这将打开Virtuoso Editing窗口，展示版图视窗。版图视窗包括三个主要部分：Iconmenu（图标菜单）、menubanner（菜单栏）和status banner（状态栏）。 4. 绘制掩模版图 打开inv Cell的layout view，开始绘制掩模版图。在Virtuoso Editing窗口中，可以使用图标菜单和菜单栏中的各种命令进行操作。例如，ZoomIn和ZoomOut用于缩放视图，Save用于保存设计。图标菜单提供了常用命令的快速访问，将鼠标悬停在图标上可查看对应指令。 5. 版图编辑 绘制版图时，需要遵循设计规则，合理布局晶体管和其他元件。在版图视窗中，可以通过放置、移动、旋转和调整元件大小等操作来构建版图。同时，要确保版图符合工艺技术文件定义的设计规则，以保证制造可行性。 6. 检查和验证 完成版图设计后，通常需要进行设计规则检查(DRC)和 lithography simulation（光刻模拟），确保设计无误并符合制造要求。DRC检查版图是否违反了工艺规则，而光刻模拟则预测在实际制造过程中的效果。 7. 版图优化 根据DRC和光刻模拟的结果，可能需要对版图进行优化，调整元件的位置和尺寸，以消除违规并提高性能。 8. 输出GDSII文件 最后，将完成的版图导出为GDSII文件，这是集成电路制造行业的标准交换格式，供后续的流片制造使用。 通过以上步骤，一个简单的反相器版图设计便完成了。这个过程展示了Cadence Virtuoso在版图设计中的基本操作，但实际的IC设计往往更为复杂，涉及多层布线、寄生效应分析等多个环节。熟悉并精通Virtuoso的使用，对于IC设计师来说至关重要。