FQD19N10LTM-VB: 100V N沟道TO252封装高性能MOS管

0 下载量 62 浏览量 更新于2024-08-03 收藏 565KB PDF 举报
FQD19N10LTM-VB是一种高性能的N沟道Trench FET®功率MOSFET,它采用TO252封装,专为在高电压和高温环境下提供高效能应用设计。这款MOSFET的主要特点包括: 1. **技术特性**: - Trench FET结构:利用沟槽工艺,提供更小的栅极截面积,降低栅极电荷,从而改善开关速度和效率。 - **耐压与工作温度**:额定的 Drain-Source Voltage (VDS) 为100V,允许在175°C的结温下持续工作。同时,其 Gate-Source Voltage (VGS) 范围为±20V。 - **电流能力**:在25°C时,连续 Drain Current (ID) 在TJ=175°C下的极限是13A,而脉冲 Drain Current (IDM) 达到40A。此外,还提供了限制的 Continuous Source Current (IS) 和 Avalanche Current (IAS)。 - **能量处理能力**:单脉冲雪崩能量 EAS 在0.1mH电感下为18mJ,确保了器件在过载条件下的安全性。 2. **安全标准**:该产品符合RoHS指令2002/95/EC,表明其在环保材料和有害物质方面达到了严格的欧盟标准。 3. **应用领域**: - 主要适用于初级侧开关,尤其适合那些对开关性能、功率密度和散热要求高的电路设计,如电源管理、电机控制等。 4. **热性能**: - 提供了 Junction-to-Ambient (热阻) 和 Junction-to-Case (Drain) 的典型和最大值,帮助用户计算热管理系统的设计。 - 最大 Power Dissipation (PD) 在25°C下为96W,但在长时间操作下可能限制更高。 5. **温度范围**: - 该MOSFET的操作和存储温度范围从-55°C至175°C,确保了宽广的工作环境适应性。 FQD19N10LTM-VB是一款具备高性能、可靠性和宽温范围的N沟道MOSFET,适用于对电力转换效率要求较高的电子设备,特别是那些需要承受高电压、高温和频繁开关的场合。在选择和使用时,务必参考产品数据表中的安全工作区(SOA)曲线,确保在限定条件下操作,以延长器件寿命并避免损坏。