优化设计：高光能利用率极紫外光刻波纹板照明系统

"高光能利用率极紫外光刻波纹板照明系统设计" 本文详细探讨了针对极紫外（EUV）光刻技术中的一个关键问题——照明系统光能利用率低，提出了一种创新的设计方案，即高光能利用率的极紫外光刻波纹板照明系统。在传统的EUV光刻照明系统中，由于设计限制，光能利用率通常较低，这直接影响到光刻过程的效率和精度。为了解决这一问题，设计团队采用了柱面镜阵列作为波纹板的面形，这种设计简化了制造过程，降低了加工复杂性。 波纹板在EUV光刻中的作用是控制并导向光源，以实现精确的曝光。文章中提到，根据波纹板反射光线的特性，研究者选择了修正型复合抛物面聚光镜与二次曲面反射镜组作为中继镜组。这样的设计选择有助于优化光路，减少能量损失，从而提高系统的光能利用率。值得注意的是，整个照明系统仅使用了四片反射镜，其中两片采用掠入射方式，这与传统的系统相比，大大提升了光能的收集和传输效率。 为了证明新设计的有效性，研究者针对一个数值孔径为0.33的EUV光刻投影物镜进行了匹配的波纹板照明系统设计实例。通过仿真分析，结果显示该系统的光能利用率可达到39.7%，显著高于传统系统。此外，掩模上的弧形照明区域在扫描方向上的积分不均匀度小于2.7%，这表明了设计在均匀性方面也具有优秀的表现，满足了EUV光刻对高精度曝光的需求。 关键词涉及的领域包括光学设计、波纹板照明系统、反射系统以及极紫外光刻。这些关键词揭示了该研究的核心内容，即利用光学设计原理，通过改进波纹板和反射镜组的结构，提升EUV光刻过程中的光能利用效率，以适应高精度、高效率的微纳米制造需求。 文章的中图分类号TN305.7反映了其在工程技术领域的光学分支，文献标识码A则表明这是一篇原创性的科研论文。最后，文章的doi(数字对象标识符)为10.3788/AOS201535.0322005，提供了在线查找和引用该研究的标准化途径。 该研究不仅提供了一种新的EUV光刻照明系统设计，还通过实例验证了其在提高光能利用率和均匀性方面的优势，对于推动EUV光刻技术的发展具有重要意义。