ASML 2007光刻工艺4x/5x 6英寸光罩操作手册

"ASML_Reticle_manual_Final_2007" 是一份由 ASML 在2007年6月18日发布的光罩操作手册，针对的是PAS5500系列和TWINSCAN系列的设备。这份文档详细介绍了6英寸光罩设计，特别关注了4x和5x的4倍及5倍缩放（demagnification）应用。手册适用于刚入门的光刻工艺工程师，即 lithography process engineers (litho PE)，旨在帮助他们有效地使用ASML的产品。 该手册主要包括产品文档配置部分，详细列出了系统（SYS）和硬件（HW）规格，比如6英寸光罩尺寸适合于4x和5x的高精度光刻作业。软件方面，虽然手册没有提供具体软件名称（SW:n.a.），但可以推测它可能包含了与光刻过程控制相关的软件支持。 订单代码为50163，表明这是一份最终版本，仅限于ASML的员工以及经过挑选的客户和代理员工使用。由于其机密性，手册内容不得向第三方透露。版权信息显示，所有权利归ASML Holding N.V.及其关联公司所有，并声明此文档仅为内部使用，受法律保护，禁止未经授权的复制、使用、披露或分发，且材料“按现状”提供，ASML对其中的内容不承担任何种类的保证。 在安全条款中，ASML强调了用户必须保留文档的控制权，任何未经授权的操作都是严格禁止的。这份手册反映了ASML对光刻工艺技术的高度保密性和专业性，是当时光刻行业内的重要参考资料，对理解当时的光刻技术流程和标准具有重要价值。