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基于GaN器件的驱动设计方案
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更新于2023-05-25
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氮化镓(GaN)是接近理想的半导体开关的器件,能够以非常高的能效和高功率密度实现电源转换。但GaN器件在某些方面不如旧的硅技术强固,因此需谨慎应用,集成正确的门极驱动对于实现性能和可靠性至关重要。本文着眼于这些问题,给出一个驱动器方案,解决设计过程的风险。 正文 氮化镓(GaN)HEMT是电源转换器的典范,其端到端能效高于当今的硅基方案,轻松超过服务器和云数据中心严格的80+规范或USB PD外部适配器的欧盟行为准则Tier 2标准。虽然旧的硅基开关技术声称性能接近理想,可快速、低损耗开关,而GaN器件更接近但不可直接替代。为了充分发挥该技术的潜在优势,外部驱动电路必须与GaN器件
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基于基于GaN器件的驱动设计方案器件的驱动设计方案
氮化镓(GaN)是接近理想的半导体开关的器件,能够以非常高的能效和高功率密度实现电源转换。但GaN器件在
某些方面不如旧的硅技术强固,因此需谨慎应用,集成正确的门极驱动对于实现性能和可靠性至关重要。本文
着眼于这些问题,给出一个驱动器方案,解决设计过程的风险。 正文 氮化镓(GaN)HEMT是电源转换
器的典范,其端到端能效高于当今的硅基方案,轻松超过服务器和云数据中心严格的80+规范或USB PD外部适
配器的欧盟行为准则Tier 2标准。虽然旧的硅基开关技术声称性能接近理想,可快速、低损耗开关,而GaN器件
更接近但不可直接替代。为了充分发挥该技术的潜在优势,外部驱动电路必须与GaN器件
氮化镓(GaN)是接近理想的半导体开关的器件,能够以非常高的能效和高功率密度实现电源转换。但GaN器件在某些方面
不如旧的硅技术强固,因此需谨慎应用,集成正确的门极驱动对于实现性能和可靠性至关重要。本文着眼于这些问题,给出一
个驱动器方案,解决设计过程的风险。
正文
氮化镓(GaN)HEMT是电源转换器的典范,其端到端能效高于当今的硅基方案,轻松超过服务器和云数据中心严格的
80+规范或USB PD外部适配器的欧盟行为准则Tier 2标准。虽然旧的硅基开关技术声称性能接近理想,可快速、低损耗开关,
而GaN器件更接近但不可直接替代。为了充分发挥该技术的潜在优势,外部驱动电路必须与GaN器件匹配,同时还要精心布
板。
对比GaN和硅开关
更高能效是增强型GaN较硅(Si)开关的主要潜在优势。不同于耗尽型GaN,增强型GaN通常是关断的器件,因此它需要一
个正门极驱动电压来导通。增强型GaN的更高能效源于较低的器件电容和GaN的反向(第三象限)导电能力,但反向恢复电荷为
零,这是用于硬开关应用的一个主要优点。低栅极源和栅极漏电容,产生低总栅电荷,支持门极驱动器快速门极开关和低损
耗。此外,低输出电容提供较低的关断损耗。可能影响实际GaN性能的其他差别是没有漏源/栅雪崩电压额定值和相对较低的
门极电压,Si MOSFET约+/-20V,而GaN通常只有+/-10V。另外,GaN的导通阈值(VGTH) 约1.5V,远低于Si MOSFET(约
3.5V)。如果外部驱动和负载电路能够可靠地控制源极和门极电压,开关频率可达数百kHz或MHz区域,从而保持高能效,进
而减小磁性器件和电容尺寸,提供高功率密度。
GaN门极驱动对性能至关重要
使门极驱动电压保持在限值内并不是的要求。对于快的开关,一个典型的GaN器件需要被驱动到约5.2V的VG(ON)值,这
样才能完全增强,而不需要额外的门极驱动功率。驱动功率PD由下式得出:
其中VSW为总门极电压摆幅,f为开关频率,QGTOT为总门极电荷。虽然GaN门极具有有效的电容特性,但在门极的有
效串联电阻和驱动器中功率被耗散。因此,使电压摆幅保持很重要,特别是在频率很高的情况下。通常,对于GaN来
说,QGTOT是几nC,约是类似的硅MOSFET值的十分之一-这也是GaN能够如此快速开关的原因之一。GaN器件是由电荷控
制的,因此对于纳秒开关具有纳米库仑门极电荷,峰值电流为放大器级,必须由驱动器提供,同时保持的电压。
理论上,GaN器件在VGS = 0安全关断,但在现实世界中,即使是的门极驱动器,直接施加到门极的电压也不可能是
0V。根据VOPP = -L di/dt (图1),在门极驱动回路共有的源引线中的任何串联电感L都会对门极驱动器产生相反的电压
VOPP,这会导致高源di/dt的假开关。同样的影响可能是由关态dv/dt迫使电流流过器件的“Miller”电容造成的,但对于GaN,这
可忽略不计。一种解决方案是提供一个负门极关断电压,可能-2或-3V,但这使门极驱动电路复杂,为避免复杂,可通过谨慎
布板和使用以‘开尔文连接’和具有封装电感的器件如低高度、无铅PQFN型封装。
图1:源极和门极驱动共有的电感会引起电压瞬变高边门极驱动的挑战
GaN器件不一定适合于所有的拓扑结构,如大多数“单端”反激式和正激式没有反向导通,而且其高于硅MOSFET的额外成
本超过了任何小的能效优势。然而,“半桥”拓扑-如图腾柱无桥PFC、LLC转换器和有源钳位反激-将自然成为GaN的根据地,
无论是硬开关还是软开关。这些拓扑都有“高边”开关,其源是个开关节点,因此门极驱动被一个具有纳秒级的高压和高频波形
所抵消。门极驱动信号于参照系统地面的控制器,因此高边驱动器必须将电平移位与适当的耐压额定值(通常为450 V或更高)
结合起来。它还需要一种为高边驱动产生低压电源轨的方法,通常采用由自举二极管和电容组成的网络,参照开关节点。开关
波形应力为dV/dt,GaN可达100 V/ns以上。这导致位移电流流经驱动器到地面,可能导致串联电阻和连接电感的瞬态电压,
可能损坏敏感的差分门极驱动电压。因此,驱动器应具有较强的dV/dt抗扰度。
为了限度地防止灾难性的“击穿”和实现能效,半桥高边和低边器件应保证无重叠被驱动,同时保持少的死区时间。因此,
高边和低边驱动应有控制非常好的、匹配的传播延迟。
对于低边,接地驱动器应直接在开关源进行开尔文连接,以避免共模电感。这可能是个问题,因为驱动器也有一个接地信
号,这可能不是的连接。因此,低边驱动器可能采用隔离或某种分离功率和信号的方法,具有一定程度的共模电压容限。
GaN驱动器可能需要安全隔离

















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