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德国Centrotherm_PECVD设备E2000中文说明书.pdf

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46页

Centrotherm PECVD系统是管式系统，采用平行式石墨舟和低频（40kHz）激发等离子体放电。在低压和高温的条件下，等离子体在石墨舟

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Technical Description

System Description

17.6.2009

PECVD E2000 HT410-4

0 概述 4

0.1 基本情况 4

0.1.1 Centrotherm PECVD 的工作原理 4

0.2 系统概况 4

0.3 系统配置 6

0.3.1 系统 1 6

0.4 系统尺寸 7

1 工艺规范 ( 太阳能 ) 8

1.1 PECVD – 氮化硅 ( 太阳能 ) 8

1.1.1 设备能力 8

1.1.2 均匀性 9

1.1.2.1 石墨舟留下的痕迹 9

2 炉体 10

2.1 加热器 10

2.2 测温 10

2.3 炉体控制系统现场总线 (CAN) 11

2.4 冷却系统 12

2.5 安全系统 CMS 13

2.5.1 基本系统 13

2.5.2 真空工艺的附加系统 13

3 工艺控制系统 CCC 15

3.1 CESAR - 控制电脑 15

3.2 单元控制系统 CCC-RM 16

3.2.1 工艺菜单管理 16

3.2.2 ProtGraf - CESAR 记录分析 17

3.2.3 远程控制程序 17

3.2.4 维护管理员 17

3.3 CCC - PC 17

3.3.1 控制电脑硬件配置 17

3.3.2 使用远程控制功能 18

3.4 不间断电源 (USV10，可选) 18

Technical Description

System Description

17.6.2009

3.5 信号塔 18

3.5.1 信号塔颜色和声音信号的含义 19

3.5.2 同时出现多颜色信号 21

3.5.3 声音信号 21

3.5.4 信号塔的位置 21

4 温度控制系统 22

4.1 温度控制器 REG 97 22

4.2 拉炉温元件 22

4.3 带原位测温的级联温度控制 23

5 热风排风柜 Error! Bookmark not defined.

6 硅片装载系统 25

6.1 外接全自动硅片装载系统的界面 25

6.1.1 石墨舟传输系统 (滑轨) 25

6.2 人工装载硅片的界面 (手推车) 26

6.2.1 传输进出口 26

6.2.2 传输平台 (手推车) 26

6.2.3 外部冷却台 26

6.2.4 外接硅片装卸台 27

6.3 外接全自动硅片装卸系统 (PECVD) 27

6.3.1 工作顺序说明 (型号 H-LPE-V-150-900) 27

6.3.2 技术数据 30

6.3.3 设备平面示意图 30

6.3.4 硅片装卸机的照片 31

7 石墨舟搬运系统 32

7.1 操作台类型：受控环境 32

7.2 进舟系统 32

7.3 石墨舟提升 32

7.4 石墨舟存储（冷却） 33

8 闭管系统 34

8.1 自动闭管装置 (软着陆) 34

8.1.1 低压工艺（PECVD） 34

8.2 背面法兰 34

8.2.1 低压工艺 (PECVD) 34

9 气体系统柜 GVS 35

9.1 气体系统示意图 (主系统) 36

Technical Description

System Description

17.6.2009

10 气体/真空系统 37

10.1 气体管道/真空系统描述 37

10.1.1 PECVD – 氮化硅 37

10.2 气体/真空系统示意图 38

10.2.1 气体管道 (真空，吹扫氮气) 38

10.2.2 真空系统 (每管) 39

11 等离子系统 40

11.1 发生器 40 kHz 40

12 工艺管道配置 41

12.1 工艺管道 41

12.1.1 石英炉管 41

12.2 桨 41

12.2.1 碳化硅桨（PECVD） 41

12.3 工艺用舟 41

12.3.1 垂直式石墨舟 41

13 培训 42

13.1 维护培训 42

13.2 系统培训 42

13.3 工艺培训 42

14 系统要求/配置/数据 43

14.1 系统动力需求 43

14.2 系统技术参数和配置 44

14.3 硅片规格 45

Technical Description

System Description

17.6.2009

概述

0.1 基本情况

0.1.1 Centrotherm PECVD 的工作原理

Centrotherm PECVD 系统是管式系统，采用平行式石墨舟和低频（40kHz）激发等离子

体放电。在低压和高温的条件下，等离子体在石墨舟的石墨惦记之间激发。反应的气体

是硅烷和氨气。这些气体反应之后沉积到衬底（硅片）上，形成氮化硅薄膜。薄膜的折

射率可以通过调整两种气体的比例而调整。

在沉积薄膜过程中会产生大量的氢原子和离子，这些对硅片的氢钝化效果显著。另外，

在烧结过程中薄膜中的大量氢成分会在高温条件下扩散入硅片体内，形成体钝化。

PECVD 氮化硅对硅片具有表面钝化和体钝化双重功能。

0.2 系统概况

Ø 设备

设备的基本功能单元包括：

• 硅片装载区域

• 热风排风柜

• 炉体

• 气体系统

• 真空系统

Ø 工艺

减反射膜兼具减反和钝化功能，且产量高。

Ø 电池尺寸

有各种尺寸的石墨舟提供，从 125 x 125 mm 到 156 x 156 mm

Ø 标准单管容量（垂直式石墨舟）

Ø 125x125: 252

Ø 156x156: 216

Ø 毛产量

对于 4 管系统:

Technical Description

System Description

17.6.2009

• 125x125: 1440 片/小时

• 156x156: 1230 片/小时

Ø 自动化（舟，硅片装卸）

• 石墨舟进炉: 软着陆

• 石墨舟上下: 全自动

• 硅片: 手动或

外加全自动机械手

Ø 层流系统

装载区域配备了垂直层流系统，用于净化空气。

Ø 运输

4 管系统可以按高度分为两部分。

剩余45页未读，继续阅读

龚牧峰

2021-01-03

骗人啊,不全

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