PVS生成MetalDummy技术详解及实战指南

"该资源是关于使用PVS生成MetalDummy的实现方法的PPTX文件，主要用于在半导体设计中处理MetalDummy的生成及其对时序影响的控制。内容包括实现流程、相关文件介绍以及如何应对可能的问题。" 在集成电路设计中，MetalDummy是一种常见的填充金属层，用于改善制造过程中的均匀性，避免因空洞或不规则形状导致的良率问题。PVS（Physical Verification System）是 Cadence 设计系统公司的一款物理验证工具，能够帮助工程师在设计流程中确保设计符合工艺规则。在这个过程中，生成和管理MetalDummy是至关重要的一步。 实现流程通常包括以下步骤： 1. **Timing ECO（工程变更指令）**：首先进行时序分析，识别需要优化的网路（Critical Net）。 2. **使用PVS生成MetalDummy**：根据工艺规则和设计需求，利用PVS的规则文件（如SMIC40_PVS_BEOL_FEOL_DUMMY.rul）生成MetalDummy。 3. **Timing SignOff**：将含dummy的数据导入到创新者（Innovus）进行时序签核，使用StarRC或PT（PrimeTime）进行时序分析。 4. **修剪操作**：如果发现新增了timing违例，可以使用trimMetalFillNearNet功能来修剪Critical Net周围的dummy，以减小其对关键路径时序的影响。 5. **迭代优化**：根据分析结果，可能需要多次调整dummy的位置和数量，直至满足时序要求。 相关文件包括： - **PVS_ENV_Release**：环境配置文件夹，包含99_add_metal_fill.tcl和REF_add_pvs_dummy_aware_timing.tcl等脚本，用于驱动PVS进行MetalDummy生成。 - **SMIC40_PVS**：工艺库文件，包含了针对特定工艺（如SMIC 40nm）的规则和参数。 - **gdsMap**：如smic40ll_1p7m1tm_streamOut_merged_dummy.map，用于在导出GDSII文件时指定MetalDummy的映射规则。 - **defMap**：如metal_fill_def.map，定义了如何处理dummy在DEF文件中的表示。 - **pvs_rule**：包含了PVS的工艺规则文件，指导MetalDummy的生成。 在使用PVS生成MetalDummy时，需要注意防止dummy对CriticalNet造成负面影响。通过trimMetalFillNearNet功能，可以精确地调整dummy的位置，以避免它们对关键时序路径造成额外延迟。此外，测试和评估生成的MetalDummy对整体时序的影响是必要的，这可以通过比较有无dummy的情况下的时序分析结果来完成。 总结来说，这个资源提供了一个完整的流程，从理解如何在PVS中生成MetalDummy，到如何处理和优化dummy以满足时序要求，再到如何进行相关的文件管理和测试，对于进行半导体物理设计的工程师来说具有很高的参考价值。