电光性能研究:膜相容性对染料掺杂聚合物DR1/SU-8的影响

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"该研究探讨了膜的相容性如何影响染料掺杂的聚合物DR1 / SU-8的电光性能。研究者通过在硅基板上制作由DR1 / SU-8核心和不同材料(如NOA73、SU-8、PDMS或PMMA)作为上覆层的多层膜,来研究被动包覆材料与DR1 / SU-8之间的相容性。他们特别关注了界面形态、电场极化、以及这些膜的电光信号响应。" 文章指出,通过使用过量的紫外线照射和高温处理,可以实现DR1 / SU-8核心与NOA73上覆层之间的良好化学结合,避免腐蚀和分层。利用原子力显微镜(AFM)测量上包层表面的粗糙度,确认了极化过程的有效性。极化后的电光(EO)信号响应被用来评估DR1发色团的取向,这通过Teng-Man方法得以实现。此外,研究还测量了包层的电阻率以解释电光响应的差异。 在极化过程中,发现延长冷却时间可以优化NOA73 / (DR1 / SU-8)构型的电光性能,并在550小时内达到最佳的幅度稳定性。同时,通过构建通道波导,研究人员考察了极化对光损耗的影响,强调了选择具有优异电学和化学性能的被动包覆层对于构建染料-聚合物系统中的光学非线性的重要性。 关键词包括"电光聚合物"、"相容性"、"被动包覆"和"波导",这表明研究的重点在于理解材料的相互作用如何影响电光性能,特别是在制造光学器件如波导时的潜在应用。这些发现对于未来设计和优化基于聚合物的电光器件,特别是那些利用染料掺杂技术的器件,具有重要的指导意义。通过改进材料的相容性和极化过程,可以实现更高效、稳定的电光性能,从而推动光学通信、光电子学和其他相关领域的技术进步。